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SYDC-100N氮?dú)獗Ｗo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) Dip Coater。 是專(zhuān)門(mén)為氮?dú)鈿夥毡Ｗo(hù)下的液相法（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)。對(duì)不同液體通過(guò)浸漬提拉生長(zhǎng)薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無(wú)振動(dòng)，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

一.    產(chǎn)品應(yīng)用

本產(chǎn)品主要用于在氮?dú)鈿夥毡Ｗo(hù)下，采用溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過(guò)預(yù)先設(shè)置的參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來(lái)。在基片上附著一層膜，稱(chēng)為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。

二.    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

浸漬提拉鍍膜機(jī)是是專(zhuān)門(mén)為氮?dú)鈿夥毡Ｗo(hù)下的液相法（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)。垂直提拉機(jī)構(gòu)置于密閉箱體內(nèi)，箱體側(cè)壁設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)口及壓力控制系統(tǒng)。鍍膜時(shí)，將溶液放入箱體內(nèi)，基片加持在垂直提拉機(jī)構(gòu)上，將氮?dú)獬錆M(mǎn)箱體（氮?dú)獾某淙肓靠赏ㄟ^(guò)控制箱體內(nèi)的濕度來(lái)調(diào)節(jié)），設(shè)置鍍膜參數(shù)后即可在氮?dú)鈿夥盏谋Ｗo(hù)下對(duì)溶液進(jìn)行提拉鍍膜。

適用于膜層易氧化、對(duì)濕度敏感的薄膜材料。還可充入氬氣等惰性氣體。

提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無(wú)特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無(wú)振動(dòng)，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。

適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

三.    產(chǎn)品特點(diǎn)

1.        提拉裝置、程序控制系統(tǒng)均采用中國(guó)臺(tái)灣及德國(guó)進(jìn)口產(chǎn)品，確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性；

2.        多參數(shù)全自動(dòng)程序控制。共有六個(gè)參數(shù)設(shè)置：下降速度、浸漬時(shí)間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時(shí)間，各參數(shù)均連續(xù)可調(diào)，精密控制。

3.        鍍膜程序設(shè)定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個(gè)鍍膜過(guò)程全自動(dòng)運(yùn)行。

4.        高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，鍍膜時(shí)液面無(wú)振動(dòng)，使膜層更均勻、無(wú)條紋。

5.        采用4.3英寸液晶觸摸屏使控制更方便。運(yùn)行時(shí)，各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示，更直觀了解鍍膜進(jìn)程。

6.        上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運(yùn)行時(shí)，到限位處自動(dòng)停止，避免提拉或下降的超限運(yùn)行。

7.        采用獨(dú)特設(shè)計(jì)的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會(huì)夾壞樣片。

8.        高精度氮?dú)鈧鞲衅?。以及?dú)有的氮?dú)夤?jié)約裝置，氮?dú)庀牧糠浅５汀?/span>

四.    技術(shù)參數(shù)

1.        提拉速度范圍：1～5000 μm/s，*小分辨率1μm/s；

2.        速度精度：-0.02%～+0.02%

3.        **行程：230 mm

4.        適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；

5.        浸漬時(shí)間：1～1200 s，*小分辨率1s；

6.        鍍膜次數(shù)：1～100次，*少1次；

7.        每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，*小分辨率1s；

8.        濕度控制范圍：1%～60%，*小可調(diào)1%；

9.        濕度精度：±3%

10.    溫度顯示范圍：-9℃～99℃

11.   電源：220V/50Hz