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        通用掃描遷移率粒度儀USMPS集成數(shù)據(jù)記錄儀
        通用掃描遷移率粒度儀USMPS集成數(shù)據(jù)記錄儀

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        帕剌斯儀器(上海)有限公司

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        U-SMPS 2050 X / 2100 X / 2200 X

        通用掃描遷移率粒度儀,集成X射線電離,適用于8 – 1200 nm的各種應(yīng)用

        ?    粒徑分布從8 nm到1.2 μm
        ?    連續(xù)和快速掃描的測量原理
        ?    高分辨率,多達128個尺寸類別/衰減
        ?    適用于高達108顆粒/立方厘米的濃度
        ?    可以連接其他制造商的各類DMA和納米粒子計數(shù)器
        ?    圖形顯示測量值
        ?    直觀操作,使用7英寸觸摸屏和GUI
        ?    集成數(shù)據(jù)記錄儀
        ?    支持多種接口和遠程訪問
        ?    低維護
        ?    功能可靠
        ?    減少您的運營費用 * 請聯(lián)系Palas?了解更多信息。

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        圖1:U-SMPS 2050 X / 2100 X / 2200 XPalas?通用掃描遷移率粒度儀(U-SMPS)有兩種版本。長分類柱型號(2050 X / 2100 X / 2200 X型號)能夠可靠地測定8至1,200 nm的粒徑分布。已經(jīng)集成軟X射線源作為中和器(見圖1)。代替放射性中和(例如使用Kr-85)的優(yōu)點是在運輸過程中無需遵循以下要求。

        Palas?U-SMPS系統(tǒng)包括一個分類器[在ISO 15900中定義為差分電遷移率分類器(DEMC),也稱為差分遷移率分析器(DMA)],根據(jù)氣溶膠顆粒的電遷移率選擇并傳遞給出口。

        然后,冷凝顆粒計數(shù)器(例如Palas?UF-CPC)對這些顆粒進行計數(shù)。三種可用的UF-CPC模型可實現(xiàn)各種濃度范圍內(nèi)的優(yōu)異單顆粒計數(shù)。 Wiedensohler教授(德國IfT萊比錫)開發(fā)了Palas?的算法,用于對測量數(shù)據(jù)進行反演以產(chǎn)生U-SMPS粒度分布。

        U-SMPS使用觸摸屏上的圖形用戶界面進行操作。單個粒子分布掃描可以在短短30秒內(nèi)執(zhí)行,或者每十個通道多達執(zhí)行64個尺寸通道,在此期間,DEMC分類器中的電壓連續(xù)變化,從而導(dǎo)致每個尺寸通道的計數(shù)統(tǒng)計更高。集成的數(shù)據(jù)記錄器允許在設(shè)備上以線性和對數(shù)顯示測量值。隨附的評估軟件提供各種數(shù)據(jù)評估(廣泛的統(tǒng)計和平均)和導(dǎo)出功能。

        U-SMPS通常作為獨立設(shè)備運行,也可以使用各種接口(USB,LAN,WLAN,RS-232 / 485)連接到計算機或網(wǎng)絡(luò)。 Palas?U-SMPS支持其他制造商的各類DMA、CPC和氣溶膠靜電計。

        U-SMPS的準確尺寸確定和可靠性能尤其重要,特別是對于校準。所有組件都通過嚴格的質(zhì)量保證測試,并在內(nèi)部組裝。

        圖2展示U-SMPS的工作原理:

        氣溶膠在進入分類器(DEMC列)之前經(jīng)過調(diào)節(jié)??蛇x的干燥器(例如硅膠,Nafion)可以去除顆粒中的水分。使用雙極中和器(XRC 049)可以確保測定的氣溶膠電荷分布。為了去除大于分類器尺寸范圍的顆粒,需要在DEMC的入口處使用撞擊器。

        663.jpg

        圖2:通用掃描遷移率粒度儀(U-SMPS)的工作原理

        然后,氣溶膠通過入口導(dǎo)入DEMC色譜柱。沿外部電極的氣溶膠流在此與護套氣流仔細合并。重要的是在此處避免任何湍流,以確保層流。電極的表面在光滑度和公差方面必須具有極高的質(zhì)量。

        鞘空氣是干燥、無顆粒的載氣(通常是空氣),其體積大于連續(xù)在閉環(huán)中循環(huán)的氣溶膠體積。鞘空氣與樣品空氣的體積比定義傳遞函數(shù),從而定義尺寸分類器的分辨率。

        通過施加電壓在內(nèi)和外電極之間產(chǎn)生徑向?qū)ΨQ的電場。內(nèi)電極在末端帶有小縫隙,帶正電。通過平衡每個粒子上的電場力及其在電場中的空氣動力學(xué)阻力,帶負電的粒子被轉(zhuǎn)移到正電極。根據(jù)它們的電遷移率,一些顆粒會穿過狹縫并離開DEMC。

        在工作中,電壓并因此電場連續(xù)變化。結(jié)果是,遷移率變化的粒子離開DEMC,并由納米粒子計數(shù)器(例如縮合粒子計數(shù)器)(例如Palas?UF-CPC)連續(xù)測量。

        在實際條件下,經(jīng)過測試的軟件為組合數(shù)據(jù)(電壓,粒子數(shù)等)并獲得粒度分布提供特殊的處理功能,如圖3所示。

        46.jpg

        圖3:Palas?DNP 3000顆粒發(fā)生器產(chǎn)生的氣溶膠的粒徑分布

        用戶界面和軟件

        基于持續(xù)的客戶反饋,我們已設(shè)計良好的用戶界面和軟件,以實現(xiàn)直觀的操作、實時控制,并可以顯示測量數(shù)據(jù)和參數(shù)。

        此外,軟件還通過集成的數(shù)據(jù)記錄器、完善的導(dǎo)出功能和網(wǎng)絡(luò)支持為數(shù)據(jù)管理提供支持??梢允褂迷S多可用的顯示選項和測量數(shù)據(jù)評估功能。

        可用系統(tǒng)

        下面的文檔介紹DEMC與Palas?提供的計數(shù)器的各種組合。 其他制造商提供的大多數(shù)DMA、CPC和氣溶膠靜電計都可以用作U-SMPS系統(tǒng)的組件。



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