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用途：
CVD氣相沉積爐用于燒結(jié)碳碳及碳陶復合材料產(chǎn)品.
主要配置：
1.臥式爐體，雙層爐體結(jié)構(gòu)，水冷夾套設計。
2.爐膛內(nèi)由發(fā)熱元件，保溫層，測溫熱電偶，監(jiān)測熱電偶組成
3.發(fā)熱元件沿爐膛內(nèi)壁均勻布置，有利于加熱，溫度均勻性好
4.PLC加觸摸屏/工控機操作方式，有報警功能，自動化程序高,安全可靠
技術特征：
1.采用進的控制技術，能精確控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動范圍?。?/span>
2. 采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
3. 采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；
4. 對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物能進行有效處理；
5. 采用全新設計防腐蝕真空機組，持續(xù)工作時間長，維修率極低。
產(chǎn)品規(guī)格：
參數(shù)型號 | VCVD-0508- SIC | VCVD-1218- SIC | VCVD-1520- SIC |
工作區(qū)尺寸W×HXL（mm） | 600×600×1200 | 1000×1000×1200 | 1200×1200×2000 |
裝載重量（kg） | 300 | 1000 | 2000 |
溫度（℃） | 1500 | 1500 | 1500 |
溫度均勻性（℃） | ±7 | ±10 | ±10 |
加熱功率（kW） | 130 | 300 | 500 |
極限真空度（Pa） | 20 | 20 | 20 |
壓升率（Pa/h） | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
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