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            貴恒XRF高頻熔樣爐GHB-T4
            貴恒XRF高頻熔樣爐GHB-T4

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            GHB-T4加熱狀態(tài)

            一、優(yōu)勢:

            1、制樣量大10分鐘約做4個樣。

            2、鉑黃金坩堝用量少節(jié)省資金。

            3、不需要擺動功能,轉(zhuǎn)動停止坩堝始終停止在水平位置,減少了機械故障。

            4、操作安全冷卻后再取放樣。

            5、缺點是坩堝底部粗糙后需要打磨光或者重新加工。

            二、用途及適用范圍:

            XRF高頻熔樣爐是與X射線熒光光譜分析儀配套使用的一種熔融法制樣設(shè)備。也可用于原子吸收光譜儀(AA)和感應(yīng)藕合等離子體(ICP)分析樣品的溶液制作。

            在X射線熒光光譜分析中,樣品處理是否恰當(dāng)對檢測準(zhǔn)確度影響很大,熔融制樣法是準(zhǔn)確度和重復(fù)性,也是技術(shù)要求較高的一種方法。在各類企業(yè)生產(chǎn)過程控制、產(chǎn)品質(zhì)量控制、地質(zhì)礦產(chǎn)分析、環(huán)保材料和科學(xué)研究等領(lǐng)域都廣泛使用。

            適用于鋼鐵、水泥、陶瓷、玻璃、耐火材料、有色金屬冶煉、地礦、商檢、涂料、磷化工、鈦白粉,脫硝脫硫催化劑等行業(yè),礦物、原料、半成品或成品樣品的熔樣。

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            10分

            易用性

            10分

            性價比

            10分
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