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自21世紀(jì)以來,由半導(dǎo)體微電子技術(shù)引發(fā)的微納米加工時(shí)代依賴于微納米尺度的功能結(jié)構(gòu)與器件,實(shí)現(xiàn)功能結(jié)構(gòu)微納米化的基礎(chǔ)是先進(jìn)的微納米加工技術(shù)。傳統(tǒng)的光刻工藝需要設(shè)計(jì)定制掩膜版,而激光直寫光刻技術(shù)無需掩膜工序,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案器件;此外,激光直寫光刻技術(shù)也突破了曝光尺寸和效率的限制,使其作為一種先進(jìn)的微納加工制作技術(shù),在許多高新技術(shù)領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用。
臺(tái)式無掩膜激光直寫光刻系統(tǒng)打破了市面上傳統(tǒng)激光直寫設(shè)備高昂價(jià)格壁壘,是現(xiàn)階段市面上優(yōu)性價(jià)比的一款先進(jìn)的激光直寫光刻系統(tǒng);采用集成化設(shè)計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡便,不僅具有無掩膜直寫系統(tǒng)靈活性,而且還具有高刻寫效率,寫場范圍大,操作成本低,多種光學(xué)校準(zhǔn)補(bǔ)償?shù)忍攸c(diǎn),從成本、性能上均可以取代傳統(tǒng)微納加工工藝中傳統(tǒng)光刻機(jī)的功能.
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