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            EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀
            EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀

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            北京

            樣本

            暫無
            北京賽凡光電儀器有限公司

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            第2年

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            EM13LD 系列是采用先進的測量技術,針對普通精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領域推出的多入射角激光橢偏儀。
            EM13LD系列采用半導體激光器作為光源,可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量??捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設計實現(xiàn)了納米薄膜的**厚度測量。
            EM13LD系列采用了量拓科技多項**技術。

            特點

            • 次納米的高靈敏度

              國際先進的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量極薄納米薄膜,膜厚精度可達到0.5nm。
            • 3秒的快速測量

              國際水準的儀器設計,在保證精度和準確度的同時,可在3秒內(nèi)快速完成一次測量,可對納米膜層生長過程進行測量。
            • 簡單方便的儀器操作

              用戶只需一個按鈕即可完成復雜的材料測量和分析過程,數(shù)據(jù)一鍵導出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進行高級測量設置。

            應用:

            • EM13LD系列適合于普通精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
            • EM13LD系列可用于測量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k;可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;可用于實時測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
            • EM13LD可應用的納米薄膜領域包括:微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等??蓱玫膲K狀材料領域包括:固體(金屬、半導體、介質(zhì)等),或液體(純凈物或混合物)。

            技術指標:

            項目
            技術指標
            儀器型號
            EM13 LD/635 (或其它選定波長)
            激光波長
            635 nm (或其它選定波長,高穩(wěn)定半導體激光器)
            膜厚測量重復性1)
            0.5nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
            折射率測量重復性1)
            5x10-3 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
            單次測量時間
            與測量設置相關,典型3s
            **的膜層范圍
            透明薄膜可達1000nm
            吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關
            光學結(jié)構(gòu)
            PSCA(Δ在0°或180°附近時也具有極高的準確度)
            激光光束直徑
            2mm
            入射角度
            40°-90°可手動調(diào)節(jié),步進5°
            樣品方位調(diào)整
            Z軸高度調(diào)節(jié):±6.5mm
            二維俯仰調(diào)節(jié):±
            樣品對準:光學自準直和顯微對準系統(tǒng)
            樣品臺尺寸
            平面樣品直徑可達Φ170mm
            **外形尺寸
            887 x 332 x 552mm (入射角為90º時)
            儀器重量(凈重)
            25Kg
            選配件
            水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺,真空吸附泵
            軟件(ETEM)
            * 中英文界面可選
            * 多個預設項目供快捷操作使用
            * 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合
            * 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出
            * 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持
            注:(1)測量重復性:是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標準差。

            性能保證:

            • 穩(wěn)定性的半導體激光光源、先進的采樣方法,保證了穩(wěn)定性和準確度
            • 高精度的光學自準直系統(tǒng),保證了快速、高精度的樣品方位對準
            • 穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設計、可靠的樣品方位對準,結(jié)合先進的采樣技術,保證了快速、穩(wěn)定測量
            • 分立式的多入射角選擇,可應用于復雜樣品的折射率和**厚度的測量
            • 一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設計,使得系統(tǒng)操作簡單、整體穩(wěn)定性提高,并節(jié)省空間
            • 一鍵式軟件設計以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫,方便用戶使用

            可選配件:

            • NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標片
            • NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標片
            • VP01真空吸附泵
            • VP02真空吸附泵
            • 樣品池

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            售后服務

            10分

            易用性

            10分

            性價比

            10分
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            EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀信息由北京賽凡光電儀器有限公司為您提供,如您想了解更多關于EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀報價、型號、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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