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日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！

• 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：

  斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。

  平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。

• 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：

  與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間。

  （**加工率：硅元素為300微米/小時(shí) — 加工時(shí)間減少了66%。

• 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺(tái)裝置：

  為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺(tái)裝置拆卸。