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AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng) 采用 消除像差 的光學(xué)設(shè)計(jì)，以商用設(shè)備實(shí)現(xiàn) μm 量級(jí)超表面器件的原位、寬譜段的透 / 反射光場(chǎng)測(cè)量，并提供焦距、成像分辨率、點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)、調(diào)制傳遞函數(shù)、斯特列爾比、數(shù)值孔徑、偏折效率等關(guān)鍵測(cè)量指標(biāo)分析。結(jié)合豐富的偏振器件，為您帶來一款“專業(yè)化”的超表面與超透鏡光場(chǎng)檢測(cè)平臺(tái)。

超表面器件 超表面器件在空間上具有復(fù)雜的光場(chǎng)調(diào)控能力，需要在微米尺度下掃描光場(chǎng)。

超透鏡 受限于設(shè)計(jì)規(guī)模和微納加工能力，超透鏡難以實(shí)現(xiàn)較大口徑。面向折射型透鏡的傳統(tǒng)檢測(cè)工具已無法滿足該類器件的光學(xué)性質(zhì)表征需求，針對(duì)超透鏡特點(diǎn)設(shè)計(jì)的檢測(cè)平臺(tái)應(yīng)運(yùn)而生。

微透鏡 口徑在數(shù)百微米以下的微透鏡及陣列，在集成光學(xué)中已開始發(fā)揮重要作用，受限于透鏡口徑，當(dāng)前缺乏商用化的微透鏡光學(xué)指標(biāo)檢測(cè)平臺(tái)。

AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè) 在以上領(lǐng)域的應(yīng)用得益于如下幾個(gè)特點(diǎn)： 1 μm 量級(jí)測(cè)量區(qū)域 AR-Meta 基于 Olympus 商用顯微平臺(tái)，配合消除像差的準(zhǔn)直及成像光路，實(shí)現(xiàn)了 μm 量級(jí)超表面器件光場(chǎng)檢測(cè)； 2 超過 7 項(xiàng)關(guān)鍵指標(biāo) 圍繞超表面器件及超透鏡領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)，AR-Meta 形成了焦距、成像分辨率 (含角向分辨率)、點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù) (PSF)、調(diào)制傳遞函數(shù) (MTF)、斯特列爾比 (Strehl Ratio)、數(shù)值孔徑 (N.A.)、偏折效率 (Deflection Efficiency) 等超過 7 項(xiàng)衡量器件光學(xué)性質(zhì)的關(guān)鍵指標(biāo)； 3 *寬 380~1700nm 譜段 AR-Meta 內(nèi)部支持兩個(gè)譜段：可見和近紅外 (含 850nm，1310nm，1550nm)，并通過高穩(wěn)定切換部件實(shí)現(xiàn)了兩者的切換，與之匹配的是可以通過外部接口，引入多種波長(zhǎng)的激光光源； 4 反射 + 透射 AR-Meta 具有獨(dú)立的反射與透射兩套光路，能夠輕松實(shí)現(xiàn)反射情況下 0~20mm 縱深，透射情況下 0~2mm 縱深的光場(chǎng)掃描； 5 工程化設(shè)計(jì) AR-Meta 在設(shè)計(jì)中充分考慮了光路切換的穩(wěn)定性，實(shí)現(xiàn)了控制的自動(dòng)化，保障良好用戶體驗(yàn)； 6 除此之外，內(nèi)秉的線偏振與圓偏振器件，多種濾色片的選擇等，使 AR-Meta 的應(yīng)用覆蓋了超表面檢測(cè)所需要的多數(shù)場(chǎng)合。