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原理：等離子體分析飛行時(shí)間質(zhì)譜儀結(jié)合了輝光放電等離子體的濺射速度和時(shí)間飛行質(zhì)譜的快速以及高靈敏度，實(shí)現(xiàn)了高分辨率和高靈敏度條件下固體材料的快速化學(xué)深度剖析。

重點(diǎn)應(yīng)用領(lǐng)域：

● 摻雜分析（半導(dǎo)體、光電子、太陽(yáng)能光伏、傳感器、固態(tài)光源）

● 表面和整體污染鑒定（PVD 鍍層、摩擦層、電氣鍍層、光學(xué)鍍層、磁性鍍層）

● 腐蝕科學(xué)和技術(shù)（示蹤物、標(biāo)記監(jiān)測(cè)、同位素標(biāo)記）

● 界面監(jiān)測(cè)

技術(shù)參數(shù)：

● 采集速率：每30μs一張全質(zhì)譜

● 質(zhì)量分辨率：選擇高分辨率模式時(shí)，在m/z 208可達(dá) 5000

● 動(dòng)態(tài)范圍：10⁷

● 質(zhì)量準(zhǔn)確度：40 ppm

● 靈敏度：103 cps/ppm

● 深度分辨率：nm

● 正負(fù)離子模式

● 4個(gè)離子的靈活消隱功能

● 簡(jiǎn)單易用的水平樣品裝載

產(chǎn)品特點(diǎn)：● 樣品分析快速無(wú)預(yù)處理：無(wú)需超高壓腔

● 適用于各種材料及鍍層分析

● 全質(zhì)量覆蓋：可提供從 H 到U元素的完整質(zhì)譜和分子信息，包括同位素監(jiān)測(cè)

● 獨(dú)有3D 數(shù)據(jù)，脈沖射頻模式（**）

● 高深度分辨率：測(cè)試薄層可至 1nm

● 薄層到厚層：層厚可達(dá) 100μm

● 無(wú)需校準(zhǔn)的半定量分析：濺射和電離過(guò)程分離，使得基體效應(yīng)*小化