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用于半導體工業(yè)晶圓加工設備的耐等離子體刻蝕材料，可以避免等離子刻蝕過程中高能含氟等離子體對腔體內各部件的侵蝕，也可以避免刻蝕過程中生成的難揮發(fā)氟化物沉積在晶圓表面，增加部件的使用壽命，減少晶圓的污染。有研稀土可以根據(jù)客戶需求提供多種粒度的Y2O3高純造粒粉體。
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