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        桂林礦機(jī)GK高比表氫氧化鈣設(shè)備
        桂林礦機(jī)GK高比表氫氧化鈣設(shè)備

        參考價(jià)格

        100-150萬元

        型號

        高比表氫氧化鈣設(shè)備

        品牌

        產(chǎn)地

        桂林

        樣本

        暫無
        桂林礦山機(jī)械有限公司

        白金會員

        |

        第18年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實(shí)

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        核心參數(shù)
        • 粉碎程度:

          超細(xì)粉碎
        • 單位能耗:

          詳情見桂礦說明書
        • 產(chǎn)量:

          10-40t/h
        • 裝機(jī)功率(kw):

          125/202/242
        • 成品細(xì)度:

          80-325目
        • 入料粒度(mm):

          最大35mm
        • 工作原理:

          輥壓碾磨
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        高比表面積氫氧化鈣的制備方法


        制備高比表面積氫氧化鈣的方法有多種,其中較為常用的有以下幾種:


        1. 化學(xué)沉淀法

        化學(xué)沉淀法是制備高比表面積氫氧化鈣*常用的方法之一。該方法以鈣鹽溶液為原料,通過控制反應(yīng)條件(如溫度、濃度、pH值等),使鈣離子與氫氧根離子發(fā)生反應(yīng)生成氫氧化鈣,再經(jīng)過濾、洗滌、干燥等步驟得到產(chǎn)品。化學(xué)沉淀法具有工藝簡單、成本低廉等優(yōu)點(diǎn),但產(chǎn)品比表面積和純度相對較低。


        2. 微乳液法

        微乳液法是一種制備高純度高比表面積氫氧化鈣的方法。該方法以鈣鹽溶液和堿溶液為原料,在表面活性劑的作用下形成微乳液,使鈣離子與氫氧根離子反應(yīng)生成氫氧化鈣。微乳液法可以得到比表面積較大、粒徑分布較窄的產(chǎn)品,但工藝復(fù)雜、成本較高。


        3. 模板法

        模板法是一種制備具有特定結(jié)構(gòu)和性能的納米材料的方法。該方法以特定的模板為載體,通過在模板中引入鈣離子和堿離子,使它們發(fā)生反應(yīng)生成氫氧化鈣。模板法可以得到具有特定結(jié)構(gòu)和形貌的產(chǎn)品,但工藝復(fù)雜、成本較高。


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        桂林礦機(jī)GK高比表氫氧化鈣設(shè)備信息由桂林礦山機(jī)械有限公司為您提供,如您想了解更多關(guān)于桂林礦機(jī)GK高比表氫氧化鈣設(shè)備報(bào)價(jià)、型號、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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