中國粉體網訊  近日，上海新陽在互動平臺表示，公司用于存儲器芯片的氮化硅蝕刻液為承擔的國家科技項目原創(chuàng)產品。該產品已實現銷售，為我國發(fā)展自主可控的氮化硅蝕刻液做出重要貢獻。隨著市場及客戶需求的增加，公司也將持續(xù)開發(fā)更高等級的蝕刻液產品。

公司成立20多年來，始終堅持技術創(chuàng)新，目前已擁有完整自主可控知識產權的電子電鍍和電子清洗兩大核心技術，用于晶圓電鍍與晶圓清洗的第二代核心技術產品已達到國內領先水平。第三大核心技術電子光刻技術實現重大突破，已獲得客戶連續(xù)性訂單。公司發(fā)揮自身資源優(yōu)勢，與合作方共同開發(fā)的研磨液項目研發(fā)順利，也已經拿到客戶訂單。

公司成立前10年，研發(fā)出了面向半導體封裝領域的第一代電子電鍍與電子清洗技術，為我國半導體封裝引線腳工藝加工帶來了一場根本性技術變革與提升；后10年，研發(fā)出了面向芯片制造領域的第二代電子電鍍與電子清洗技術，為我國芯片制造銅互連工藝填補了國產材料的空白，實現了國產替代和自主供應能力，一舉突破了國外企業(yè)在這一領域的壟斷，避免了被國外封鎖與“卡脖子”的可能。迄今為止，公司銅互連電鍍技術，是國內唯一能夠滿足芯片90-14nm銅制程全部技術節(jié)點對電鍍液要求的本土企業(yè)。

參考來源：上海新陽2021半年報、同花順金融研究中心