中國粉體網(wǎng)訊  據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，萬華化學(xué)集團股份有限公司（以上簡稱：萬華化學(xué)）申請一項名為“一種長時間高速率的鎢化學(xué)機械拋光液及其應(yīng)用“，公開號CN117947422A。

專利摘要顯示，本發(fā)明公開了一種長時間高速率的鎢化學(xué)機械拋光液及其應(yīng)用，所述鎢化學(xué)機械拋光液包含如下質(zhì)量百分含量的組分：0.1%-5%研磨劑、0.5~5%的氧化劑、0.001％～0.05％的鎢催化劑、0.01%-0.05%的穩(wěn)定劑、0.005%-0.05%的表面質(zhì)量改善劑、0.001%-0.003%的氧化酶、余量為去離子水。本發(fā)明的鎢化學(xué)機械拋光液具有長時間高速率且表面質(zhì)量好的特點。

隨著集成電路的不斷發(fā)展，加工精度的細微化和電路功能的復(fù)雜化，多層化、高性能的三維立體結(jié)構(gòu)已成為布線的發(fā)展趨勢。在高電流密度下，金屬鎢抗電子遷移好，不形成小丘、應(yīng)力低，而且能夠與硅形成很好的歐姆接觸，其作為多層布線中的接觸窗及介層洞的填充金屬材料，已經(jīng)被廣泛接受。鎢拋光液主要用于制造存儲芯片，在邏輯芯片中只用于部分工藝段，在FAB廠鎢化學(xué)拋光液一般不會現(xiàn)配現(xiàn)用，通常會在tank桶里加入拋光液和氧化劑混合，然后再使用。一桶tank拋光液使用需要一周左右時間，而這么長的時間不可避免的會使雙氧水分解，而雙氧水的分解會導(dǎo)致雙氧水含量的降低，進一步使的氧化能力下降，致使拋光速率下降。

目前，F(xiàn)AB廠商為了提升產(chǎn)能，各大FAB廠家對鎢化學(xué)拋光液的要求是盡可能長時間具有穩(wěn)定的高拋光速率，從而提升產(chǎn)量。但高拋光速率的前提下不可避免的會帶來表面質(zhì)量較差的問題，因此如何獲得一款具有長時間高拋光速率且表面質(zhì)量好的鎢化學(xué)拋光液是非常必要的。

本發(fā)明提供了一種長時間高速率、又表面質(zhì)量好的鎢化學(xué)機械拋光液，通過添加一種氧化酶和表面質(zhì)量改善劑，能保證鎢化學(xué)機械拋光液具有長時間高拋光速率且優(yōu)異的表面質(zhì)量。

在整個半導(dǎo)體行業(yè)及半導(dǎo)體材料的迅速增長的帶動下，全球化學(xué)機械拋光液呈現(xiàn)出快速增長態(tài)勢。早在2020年，萬華化學(xué)基于其本身在國內(nèi)化工行業(yè)的領(lǐng)頭地位，在煙臺經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)內(nèi)布局大規(guī)模集成電路平坦化關(guān)鍵材料（拋光墊+拋光液）項目，建成后拋光液有望實現(xiàn)1.5-2萬噸/年產(chǎn)能。

萬華化學(xué)在IC半導(dǎo)體領(lǐng)域持續(xù)研發(fā)，全力攻關(guān)拋光材料、先進封裝材料、光刻膠三大核心材料，目前已成功自主開發(fā)了應(yīng)用于高端拋光墊的聚氨酯，并可通過配方調(diào)控，提升產(chǎn)品性能；并且聚焦拋光液生產(chǎn)的全工藝流程提升，硅拋光液產(chǎn)品具有研磨速率優(yōu)異、金屬污染低、表面粗糙度低及循環(huán)穩(wěn)定性優(yōu)異的特點。

來源：國家知識產(chǎn)權(quán)局、萬華化學(xué)、金融界

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/空青）

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