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            光學(xué)界的超精密拋光技術(shù),我們還在追趕!


            來源:中國粉體網(wǎng)   空青

            [導(dǎo)讀]  拋光作為光學(xué)元件超精密制造中最后一道冷加工工序,其目的是為了去除表面損傷層和平滑表面誤差,降低加工工件表面粗糙度,獲取高質(zhì)量的光滑表面。

            中國粉體網(wǎng)訊  光學(xué)元件作為天文望遠(yuǎn)鏡、人工智能(AR/VR)、半導(dǎo)體芯片光刻、新一代通信、醫(yī)療設(shè)備影像、新能源等軍民領(lǐng)域的核心關(guān)鍵元器件,有著龐大的市場需求,特別是在航空航天與高新技術(shù)領(lǐng)域的大光學(xué)工程項目領(lǐng)域,需數(shù)以萬計大批量、米級口徑特殊性能超高精度光學(xué)元件。


            在光學(xué)元件得到廣泛應(yīng)用的同時,對元件的表面加工質(zhì)量要求也不斷變高,高成像質(zhì)量、大口徑、輕量化是必然的趨勢。例如,高分辨率對地觀測系統(tǒng)、X射線望遠(yuǎn)鏡等空間裝備,以大口徑光學(xué)元件為核心功能支撐。大口徑光學(xué)元件材料硬脆、面形復(fù)雜、極端輕量化,需要實現(xiàn)全頻譜納米級加工精度,而國產(chǎn)制造裝備在口徑、精度、效率方面均不能滿足要求。因此,制造高精度表面的光學(xué)元件目前是國內(nèi)外專家的研究重點。拋光作為光學(xué)元件超精密制造中最后一道冷加工工序,其目的是為了去除表面損傷層和平滑表面誤差,降低加工工件表面粗糙度,獲取高質(zhì)量的光滑表面。


            現(xiàn)階段,光學(xué)元件一般需經(jīng)過粗磨、精磨、拋光和鍍膜等工序,其表面質(zhì)量主要取決于拋光工藝的缺陷去除能力與誤差控制水平,而能夠獲取更優(yōu)面形精度及低表面/亞表面損傷抑制的精磨工藝則決定了加工效率。實現(xiàn)超精拋光的方法有很多種,較為主流的拋光方法有:小磨頭拋光、應(yīng)力盤拋光、磁流變拋光、離子束拋光、氣囊拋光、化學(xué)機械拋光、磁射流拋光等。經(jīng)過綜合評價后,認(rèn)為氣囊拋光有著更明顯的技術(shù)優(yōu)勢。優(yōu)勢如下:1) 氣囊拋光頭與非球面吻合度好,非常適用于大口徑非球面拋光;2) 去除函數(shù)穩(wěn)定性好,呈類高斯分布;3) 去除效率高、加工面形精度高。


            超精密加工制造裝備是實現(xiàn)光學(xué)元件超精密加工的前提基礎(chǔ)。至今世界各國均對光學(xué)超精密磨拋技術(shù)投入了較大的研發(fā)力量,已經(jīng)研制出了較多相對成熟的高精度磨拋設(shè)備,較好地滿足了當(dāng)前大部分的光學(xué)元件加工需求。在拋光設(shè)備方面,法國REOSC制造了具備加工8m口徑鏡片能力的拋光機,用于拋光超大望遠(yuǎn)鏡VLT鏡,面形誤差可收斂到8.8nmRMS;美國QED公司研制的磁流變數(shù)控拋光機床Q22-2000F能實現(xiàn)平面、球面、非球面和自由曲面等多種面形大口徑光學(xué)非球面元件的加工,可高效率和高精度的加工出口徑為2m級別的光學(xué)元件。


            對超精密制造所需的核心裝備與關(guān)鍵技術(shù),我國長期依賴進(jìn)口。為了突破制約我國現(xiàn)階段超精密技術(shù)發(fā)展的瓶頸,在國家大工程項目的牽引與驅(qū)動下,我國在光學(xué)超精密制造裝備與工藝取得了顯著進(jìn)展。例如,國防科技大學(xué)研制的超精密機床UPL-450,磨削Φ195 mm的單晶硅曲面光學(xué)元件,面形精度PV值從20.4μm降低到3.77μm,表面粗糙度Ra值從0.515μm提升到了0.081μm。


            雖然國內(nèi)已能夠研發(fā)制造出相對高端的精密機床,但與國際先進(jìn)水平相比,我國的光學(xué)超精密加工技術(shù)與裝備還存在一定的差距。2024年7月9日,中國粉體網(wǎng)將在鄭州舉辦“2024高端研磨拋光材料技術(shù)大會”,屆時,河南工業(yè)大學(xué)機電工程學(xué)院副教授班新星將帶來《光學(xué)元件超精密拋光工藝及裝備》的報告,其報告將從先進(jìn)光學(xué)元件的超精密制造工藝出發(fā),結(jié)合自身的科研經(jīng)歷和研究計劃,以大口徑平面光學(xué)元件超精密拋光為例,探討平面拋光機理、面形收斂機制、拋光機床設(shè)計及工藝優(yōu)化控制等問題。



            專家簡介


            班新星,河南工業(yè)大學(xué)機電工程學(xué)院副教授,碩士生導(dǎo)師,博士畢業(yè)于西安交通大學(xué)機械工程專業(yè),中國機械工程學(xué)會高級會員。長期從事高端裝備設(shè)計與開發(fā)、半導(dǎo)體超精密加工等方面的研究,承擔(dān)包括國家重大科技專項、中國博士后基金以及省部級項目等10多項。先后提出大口徑光學(xué)元件快速拋光、多能場輔助拋光碳化硅等超精密加工方法。已發(fā)表相關(guān)學(xué)術(shù)論文30余篇,申請發(fā)明專利10余項。擔(dān)任國際期刊Tribology International、Precision engineering、IJAMT等審稿人。


            來源:

            謝國宏:光學(xué)元件表面拋光創(chuàng)成及其形貌研究

            彭云峰等:光學(xué)元件超精密磨拋加工技術(shù)研究與裝備開發(fā)


            (中國粉體網(wǎng)編輯整理/空青)

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            作者:空青

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