<b id="acoce"></b>
<mark id="acoce"></mark>

  • <bdo id="acoce"><optgroup id="acoce"></optgroup></bdo>
      <samp id="acoce"><strong id="acoce"><u id="acoce"></u></strong></samp>
          1. 精品综合久久久久久97_亚洲国产精品久久久久婷婷老年_成人区人妻精品一区二区三区_国产精品JIZZ在线观看老狼_国产欧美精品一区二区三区

            拋光液:材料界的‘SPA’專家!


            來(lái)源:中國(guó)粉體網(wǎng)   山林

            [導(dǎo)讀]  拋光液,CMP的超強(qiáng)輔助

            中國(guó)粉體網(wǎng)訊  化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)能夠消除芯片表面的高點(diǎn)及波浪形。CMP通過(guò)拋光液中化學(xué)試劑的化學(xué)腐蝕和機(jī)械磨削的雙重耦合作用,在原子水平上去除表面缺陷,獲得全局平坦化表面,因此,拋光液對(duì)拋光效果起到至關(guān)重要的影響


             

            CMP工藝  來(lái)源:何潮等,半導(dǎo)體材料CMP過(guò)程中磨料的研究進(jìn)展


            CMP拋光液作為影響化學(xué)機(jī)械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素,其組分一般包括磨料、氧化劑和其它添加劑。添加劑一般包括絡(luò)合劑、螯合劑、緩蝕劑、表面活性劑,以及pH調(diào)節(jié)劑等。通常根據(jù)被拋光材料的物理化學(xué)性質(zhì)及對(duì)拋光性能的要求,來(lái)選擇所需的成分配置拋光液。


             

            化學(xué)機(jī)械拋光液各組分  來(lái)源:王東哲等,化學(xué)機(jī)械拋光液的研究現(xiàn)狀


            化學(xué)機(jī)械拋光液各組分


            1. 磨料


            作用:磨料是CMP拋光液中最直接參與去除材料的部分。它們通過(guò)物理摩擦作用,幫助去除工件表面因氧化劑反應(yīng)生成的軟質(zhì)薄膜。


            粒徑和硬度的影響:


            粒徑:磨料的大小直接影響到拋光效率和表面質(zhì)量。過(guò)大粒徑會(huì)增加劃痕和其他表面損傷的風(fēng)險(xiǎn);而過(guò)小粒徑雖然可以提供更好的表面光滑度,但會(huì)顯著降低材料去除率。


            硬度:磨料的硬度需要與被拋光材料相匹配。過(guò)硬可能導(dǎo)致表面刮傷或產(chǎn)生更多缺陷;過(guò)軟則會(huì)導(dǎo)致材料去除率低下。


            選擇:根據(jù)具體應(yīng)用場(chǎng)景選擇合適的磨料類型(如SiO2、Al2O3、CeO2等),并精確控制其粒徑分布及硬度。


             

            不同尺寸的CeO2顆粒

            來(lái)源:范永宇,CeO2復(fù)合磨料制備及其在化學(xué)機(jī)械拋光中的應(yīng)用


            2. pH調(diào)節(jié)劑


            用:通過(guò)調(diào)整拋光液的酸堿度來(lái)優(yōu)化化學(xué)反應(yīng)條件,確保化學(xué)反應(yīng)按照預(yù)期進(jìn)行。


            酸性拋光液:適用于金屬材料拋光,具有較強(qiáng)的溶解能力和較高的拋光效率。然而,它對(duì)設(shè)備有較高要求,并可能缺乏良好的選擇性。


            堿性拋光液:更適合非金屬材料,擁有較好的選擇性和較低的腐蝕性,但在尋找高效氧化劑方面存在挑戰(zhàn)。


            應(yīng)用:根據(jù)待拋光材料特性和所需表面特性選擇適當(dāng)pH值范圍內(nèi)的拋光液。


            3.氧化劑


            作用:氧化劑與工件表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成一層容易被機(jī)械移除的軟質(zhì)物質(zhì),從而實(shí)現(xiàn)高效且均勻的材料去除。


            重要性:正確選擇氧化劑對(duì)于保證拋光過(guò)程的有效性和最終產(chǎn)品質(zhì)量至關(guān)重要。不同材料對(duì)應(yīng)不同的最佳氧化劑。


            考慮因素:除了活性外,還需要考慮到與其他成分之間的兼容性以及對(duì)環(huán)境的影響等因素。


            4.抑制劑


            作用:抑制劑用來(lái)控制化學(xué)侵蝕的程度,使得整個(gè)拋光過(guò)程更加可控和平穩(wěn)。它可以提高局部區(qū)域的選擇性蝕刻效果,同時(shí)減少對(duì)設(shè)備本身的損害。


            效果:通過(guò)添加特定類型的抑制劑,可以在一定程度上改善拋光液的選擇性,使其能夠更好地適應(yīng)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的處理需求。


            5.表面活性劑


            選擇合適的表面活性劑可以同時(shí)起到磨料分散、表面潤(rùn)濕、去污、腐蝕抑制等多種效果,應(yīng)用潛能巨大。


            第一,可以改善磨料的分散性。堿性拋光液中CeO2磨料帶負(fù)電荷,加入陰離子表面活性劑可以增強(qiáng)其Zeta電位,增大磨料間靜電斥力,實(shí)現(xiàn)拋光液穩(wěn)定。此外,非離子型表面活性劑的結(jié)構(gòu)中有聚合的長(zhǎng)鏈,吸附在磨料表面可以形成較強(qiáng)的空間位阻,同樣能增加不溶性磨料的懸浮穩(wěn)定性。


            第二,增強(qiáng)拋光液對(duì)工件的潤(rùn)濕性。通過(guò)降低表面張力,增強(qiáng)對(duì)工件表面的潤(rùn)濕,使拋光液與凹陷表面充分接觸并發(fā)揮作用,提高拋光性能。


            第三,減少工件表面的污染。拋光后工件表面會(huì)殘留大量磨料和有機(jī)試劑,且吸附方式會(huì)慢慢從物理吸附轉(zhuǎn)變?yōu)榛瘜W(xué)吸附,增大去除難度。合適的表面活性劑可優(yōu)先于污染物吸附在工件表面,從源頭減少污染,提高拋光潔凈度。第四,降低腐蝕速率。在硅襯底的拋光中加入FA/O表面活性劑使得去除凸起部位過(guò)程中,對(duì)表面凹陷進(jìn)行類似腐蝕抑制劑的緩蝕保護(hù),避免過(guò)度腐蝕。


            拋光液種類繁多,大多是根據(jù)客戶的工藝進(jìn)行定制化


            根據(jù)研磨顆粒,大致分為二氧化硅拋光液、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和納米金剛石拋光液。


            • 二氧化硅拋光液:以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。


            • 氧化鈰拋光液:穩(wěn)定性能好,顆粒均勻,平均粒徑100納米,用于光學(xué)玻璃拋光。


            • 氧化鋁拋光液:氧化鋁拋光液以分級(jí)后氧化鋁微粉為原料,按特殊配方充分混合制備而成,用于各類工件粗拋、中拋、精拋工序。


            • 納米金剛石拋光液:由優(yōu)質(zhì)金剛石微粉、復(fù)合分散劑和分散介質(zhì)組成,配方多樣化,適用性強(qiáng),廣泛用于硬質(zhì)材料的研磨和拋光。


             

            來(lái)源:上海蔡康光學(xué)儀器有限公司


            根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域,大致分為硅拋光液、銅及銅阻擋層拋光液、鎢拋光液、鈷拋光液、層間介質(zhì)層拋光液、淺槽隔離層拋光液和3D封裝硅通孔拋光液。


            • 硅拋光液:用于單晶硅/多晶硅的拋光,主要用于硅晶圓初步加工。


            • 銅及銅阻擋層拋光液:芯片中銅及阻擋層的去除和平坦化。生產(chǎn)邏輯、存儲(chǔ)芯片需大量使用。


            • 鎢拋光液:芯片中鎢塞和鎢通孔的平坦化。生產(chǎn)存儲(chǔ)芯片需大量使用,邏輯芯片只用于部分工藝。


            • 鈷拋光液:用于10nm節(jié)點(diǎn)以下芯片中鈷的去除和平坦。


            • 介質(zhì)層拋光液:用于集成電路制造工藝中層間電介質(zhì)和金屬間電介質(zhì)的去除和平坦化


            • 淺槽隔離層(STI)拋光液:用于集成電路制造工藝中淺槽隔離的拋光。


            • 3D封裝硅通孔(TSV)拋光液:用于對(duì)硅通孔(TSV)的拋光。


             

            來(lái)源:東菀市創(chuàng)力半導(dǎo)體科技有限公司


            參考來(lái)源:

            [1] 雷紅等,化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)的發(fā)展、應(yīng)用及存在問(wèn)題

            [2] 嚴(yán)嘉勝等,硅晶片化學(xué)機(jī)械拋光液的研究進(jìn)展

            [3] 何潮等,半導(dǎo)體材料CMP過(guò)程中磨料的研究進(jìn)展

            [4] 燕禾等,化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

            [5] 王東哲等,化學(xué)機(jī)械拋光液的研究現(xiàn)狀

            [6] 范永宇,CeO2復(fù)合磨料制備及其在化學(xué)機(jī)械拋光中的應(yīng)用

            [7] 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所、芯小虎

            [8] 上海蔡康光學(xué)儀器有限公司官網(wǎng)、東菀市創(chuàng)力半導(dǎo)體科技有限公司官網(wǎng)、吉致電子科技有限公司官網(wǎng)


            (中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/山林)

            注:圖片非商業(yè)用途,存在侵權(quán)告知?jiǎng)h除!


            推薦5
            相關(guān)新聞:
            網(wǎng)友評(píng)論:
            0條評(píng)論/0人參與 網(wǎng)友評(píng)論

            版權(quán)與免責(zé)聲明:

            ① 凡本網(wǎng)注明"來(lái)源:中國(guó)粉體網(wǎng)"的所有作品,版權(quán)均屬于中國(guó)粉體網(wǎng),未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用。已獲本網(wǎng)授權(quán)的作品,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明"來(lái)源:中國(guó)粉體網(wǎng)"。違者本網(wǎng)將追究相關(guān)法律責(zé)任。

            ② 本網(wǎng)凡注明"來(lái)源:xxx(非本網(wǎng))"的作品,均轉(zhuǎn)載自其它媒體,轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),且不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。如其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)下載使用,必須保留本網(wǎng)注明的"稿件來(lái)源",并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。

            ③ 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起兩周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。

            粉體大數(shù)據(jù)研究
            • 即時(shí)排行
            • 周排行
            • 月度排行
            圖片新聞
            狂野欧美性猛交xxxx_亚洲国产精品久久久久婷婷老年_成人区人妻精品一区二区三区_国产精品JIZZ在线观看老狼
            <b id="acoce"></b>
            <mark id="acoce"></mark>

          2. <bdo id="acoce"><optgroup id="acoce"></optgroup></bdo>
              <samp id="acoce"><strong id="acoce"><u id="acoce"></u></strong></samp>