水解-刻蝕法制備CuMnO_2納米片陣列薄膜及其催化性能

編號：NMJS06105

篇名：水解-刻蝕法制備CuMnO_2納米片陣列薄膜及其催化性能

作者：朱倩 ;李二銳 ;周晨 ;許藝術(shù) ;張穎朦 ;王凱 ;楊則恒 ;張衛(wèi)新

關(guān)鍵詞：水解-刻蝕 合成 CuMnO2 納米結(jié)構(gòu) 催化

機構(gòu)： 合肥工業(yè)大學化學與化工學院,安徽合肥230009

摘要： 以Cu O納米片陣列為前體,通過水解-刻蝕法在水熱條件下制備出了Cu Mn O_2納米片陣列薄膜。由于同時存在具有催化活性的Cu（Ⅰ）和Mn（Ⅲ）,Cu Mn O_2納米片陣列薄膜對催化H2O_2氧化降解亞甲基藍（MB）溶液具有優(yōu)異的效果。進一步放大實驗表明,該Cu Mn O_2薄膜具有穩(wěn)定的催化性能�；�于基底生長的薄膜催化劑能夠解決粉體催化劑容易團聚、分離回收困難和容易造成二次污染等問題,在染料廢水處理方面具有很好的工程應(yīng)用前景。