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            納米SiO2對Zn-Ni/納米SiO2復合鍍層性能的影響
            

            編號：CPJS06175
            

            篇名：納米SiO2對Zn-Ni/納米SiO2復合鍍層性能的影響
            

            作者：劉軍松 吳汯翰 劉定富 葉濤 張厚
            

            關(guān)鍵詞： 納米SIO2 Zn-Ni/納米SiO2復合鍍層 耐蝕性
            

            機構(gòu)： 貴州大學化學與化工學院
            

            摘要： 先通過赫爾槽試驗優(yōu)化了乙酸鹽體系電鍍Zn-Ni合金的基礎(chǔ)鍍液配方,得到了全光亮的赫爾槽試片;再向基礎(chǔ)鍍液中添加納米SiO2,通過單因素試驗研究了納米SiO2的質(zhì)量濃度對Zn-Ni/納米SiO2復合鍍層的孔隙率及耐蝕性的影響。結(jié)果表明:當納米SiO2的質(zhì)量濃度為8g/L時,Zn-Ni/納米SiO2復合鍍層的孔隙率最低,耐蝕性最好。
            



            

            

            

            


            

            

            

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