基于脈寬參量的TiN納米晶薄膜制備及其性能

編號(hào)：CPJS06248

篇名：基于脈寬參量的TiN納米晶薄膜制備及其性能

作者：喬泳彭 蔣百靈 丁郁航 張靜

關(guān)鍵詞： 脈寬參量 TIN薄膜 納米晶 微觀結(jié)構(gòu) 力學(xué)性能

機(jī)構(gòu)： 西安理工大學(xué)

摘要： 采用大功率脈沖濺射離子鍍技術(shù)在不同脈寬條件下制備了一組TiN離子鍍層,并通過(guò)XRD、SEM、AFM等手段對(duì)膜層的微觀形貌、生長(zhǎng)模式及相關(guān)力學(xué)性能進(jìn)行了分析研究。結(jié)果表明:隨著脈寬的增大,TiN膜層的瞬時(shí)沉積速率提高,膜層內(nèi)部的晶化程度逐漸增強(qiáng),薄膜晶粒尺寸有所增大,微觀形貌顯示為較典型的TiN(111)三角錐形以及柱狀生長(zhǎng),顆粒尺寸及表面粗糙度均隨脈寬的延長(zhǎng)而增大,膜層整體無(wú)明顯孔隙等缺陷存在。通過(guò)對(duì)H/E值的分析可以看出,較小脈寬條件下制備的膜層綜合性能較好、可以獲得較高的膜層硬度以及較大的硬度-模量比。