基于電子束蒸發(fā)沉積的曲面納米薄膜均勻性研究

編號：CPJS06309

篇名：基于電子束蒸發(fā)沉積的曲面納米薄膜均勻性研究

作者：李維源 朱蓓蓓 孫權(quán)權(quán) 陸波 袁航 陳肖 蘭潔 許劍鋒

關(guān)鍵詞： 半球諧振子 電子束蒸發(fā) 球面 均勻性 光學(xué)模擬 納米薄膜

機構(gòu)： 華中科技大學(xué)機械科學(xué)與工程學(xué)院 上海航天控制技術(shù)研究所

摘要： 半球諧振子金屬化是半球諧振陀螺研制過程中的重要環(huán)節(jié),針對半球表面薄膜制備均勻性難以實現(xiàn)的問題,提出了一種將薄膜沉積實驗和光學(xué)模擬相結(jié)合的方法。本文采用電子束蒸發(fā)技術(shù)在半球上沉積Au薄膜,過渡層金屬為Cr,利用臺階儀測量球面上不同位點的薄膜厚度,將平面上的膜厚等效為半球曲面上的膜厚,研究球面薄膜的均勻性,得出了如下結(jié)論:在半球內(nèi)外表面上薄膜的膜厚逐漸減小,外球面上球頂處膜厚為唇沿處的6.1倍,而內(nèi)球面上球頂處膜厚為唇沿處的3.26倍;同時對薄膜沉積均勻性進行了光學(xué)模擬,將半球探測器上輻照度等效為實驗中沉積所得到的薄膜厚度,計算得出的半球探測器上輻照度分布與實驗測量結(jié)果一致性較好,可為半球諧振子納米薄膜的均勻性制備提供理論基礎(chǔ)。