分散劑對(duì)炭黑/聚酰亞胺復(fù)合薄膜性能的影響

編號(hào)：CYYJ01772

篇名：分散劑對(duì)炭黑/聚酰亞胺復(fù)合薄膜性能的影響

作者：劉含茂 劉杰 劉婷 胡峰 江乾 劉亦武

關(guān)鍵詞： 黑色聚酰亞胺薄膜 炭黑 分散劑 透過(guò)率

機(jī)構(gòu)： 株洲時(shí)代新材料科技股份有限公司

摘要： 以4,4′-二氨基二苯醚(ODA)為二胺,均苯四甲酸二酐(PMDA)為二酐,不同類型分散劑表面處理的炭黑為遮光填料,制備了一系列黑色聚酰亞胺(PI)薄膜,探討分散劑對(duì)炭黑/PI薄膜表面形貌和性能的影響。結(jié)果表明:經(jīng)分散劑表面處理后的炭黑在PI基體中的分散性及有機(jī)-無(wú)機(jī)的界面相容性得到提升,降低了炭黑團(tuán)聚程度,提高了薄膜的性能;當(dāng)采用YK-3(改性嵌段聚合物)分散劑處理炭黑時(shí),薄膜的表面形貌和性能最佳,其電氣強(qiáng)度、拉伸強(qiáng)度、斷裂伸長(zhǎng)率分別為145 kV/mm、146 MPa、38%,光透過(guò)率接近0。