SiC納米線/多孔SiC復(fù)合陶瓷膜的制備及其孔徑特征

編號(hào)：NMJS09242

篇名：SiC納米線/多孔SiC復(fù)合陶瓷膜的制備及其孔徑特征

作者：張凌飛 王修濤 雷煜 鄒雪郎 朱麗 徐慢 石和彬

關(guān)鍵詞： 碳熱還原 SiC納米線膜層 亞微米復(fù)合陶瓷膜

機(jī)構(gòu)： 武漢工程大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院 武漢工程大學(xué)湖北省環(huán)境材料與膜工程技術(shù)研究中心

摘要： 以葡萄糖和硅溶膠混合溶液為前驅(qū)體,采用碳熱還原法在多孔SiC陶瓷表面生長SiC納米線膜層,制備納米復(fù)合陶瓷膜。使用X射線衍射、光學(xué)顯微鏡、掃描電鏡、孔徑分析儀等對(duì)樣品的物相、形貌和孔徑特征進(jìn)行了分析。結(jié)果表明,在1450℃反應(yīng)6 h,微米孔徑SiC的表面生長出了分布比較均勻的SiC納米線膜層,納米復(fù)合陶瓷膜具有窄分布的亞微米孔徑。