不同環(huán)境下飛秒激光燒蝕對砷化鎵光電特性的影響(特邀)

編號：FTJS106901

篇名：不同環(huán)境下飛秒激光燒蝕對砷化鎵光電特性的影響(特邀)

作者：李揚 項焱蓉 藍志強 金鉆明 朱亦鳴

關鍵詞： 超快光學 光電子學 飛秒激光 激光燒蝕 光電導材料

機構： 上海理工大學光電信息與計算機工程學院

摘要： 飛秒激光燒蝕技術是半導體表面改性的一項重要技術手段。本文旨在探究飛秒激光燒蝕技術對砷化鎵表面微納結構及光電性能的調控效應。通過在不同環(huán)境下進行飛秒激光加工,觀察到樣品表面形成了規(guī)則的條紋狀結構、部分規(guī)則的條紋狀結構和不規(guī)則的橢圓狀結構。通過使用X-射線光電子能譜儀測試了材料表面性質的變化,同時通過傅里葉變換紅外光譜分析驗證了微納結構對光吸收率產(chǎn)生的影響。此外,電流-電壓曲線測量結果表明,經(jīng)過飛秒激光燒蝕處理后的樣品顯示出更高的電阻率。證明了氣體的選擇對微納結構和光電性能的調控有著重要影響。這項研究為砷化鎵光電子器件,特別是高效、耐壓型探測器等性能的提升提供了新的技術手段。