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            Cu顆粒包覆納米SiC粉體的相分散性能分析

            編號:FTJS00128

            篇名:Cu顆粒包覆納米SiC粉體的相分散性能分析

            作者:張銳 高濂等

            關(guān)鍵詞:Cu顆粒 包覆 納米SiC粉體 相分散性能 歧化反應 碳化硅 納米陶瓷

            機構(gòu): 中國科學院上海硅酸鹽研究所國家重點實驗室,上海200050

            摘要: 選用工業(yè)生產(chǎn)的納米SiC粉料;利用歧化反應原理,分解出Cu顆粒,并與納米SiC顆粒組成分散均勻的復合粉體;SEM和Auger電子探針形貌顯示復合粉體顆粒呈球形;EDS、AES等檢測結(jié)果表明,金屬Cu顆粒包覆在納米SiC顆粒表面,從而使兩相在納米尺度范圍內(nèi)保持理想的均勻分散狀態(tài)。

            出處:無機材料學報.2002,17(5).-1059-1062

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