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紅外金面反射爐應用于科研和生產(chǎn)當中，RHL-E系列紅外金面反射爐具備加熱速度快，溫度范圍寬等特點。
應用：
硅、半導體復合材料的快速退火；
可用作玻璃和陶瓷材料的退火爐；
可用作金屬退火爐；
復合材料的耐熱性評價爐；
高溫膨脹/收縮測試爐；
特點：
橢球型反射面可以快速加熱到高溫；
儀器參數(shù)：
型號 | RHL-E25P | RHL-E210P | RHL-E45P | RHL-E48 | RHL-E410P | RHL-E416 |
溫度范圍 | RT to 1300 °C | RT to 1300 °C | RT to 1400 °C | RT to 1400 °C | RT to 1400 °C | RT to 1400 °C |
加熱腔尺寸 | φ 7 mm x | φ 7 mm x | φ 10 mm x 40 mm | φ10 mm x | φ10 mm x | φ10 mm x |
應用 | 該反射爐需配備水冷系統(tǒng)； **的溫度變化會根據(jù)樣品材料和加熱腔的大小不同； 加熱區(qū)域是一個參考值； | |||||
橢球型反射面可以快速加熱到高溫，紅外金面反射爐應用于科研和生產(chǎn)當中，RHL-E系列紅外金面反射爐具備加熱速度快，溫度范圍寬等特點。
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