產(chǎn)量：
N/A裝機(jī)功率（kw）：
N/A成品細(xì)度：
0.01mm以下入料粒度（mm）：
0.01mm工作原理：
介質(zhì)研磨粉碎程度：
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Dual Apex Mill 濕式微珠磨機(jī)總覽
Dual Apex Mill（DAM）是雙軸式濕式珠磨機(jī)，配備有離心式的磨珠分離器和攪拌器，它們各自獨(dú)立驅(qū)動(dòng)，攪拌器的轉(zhuǎn)速具有很高的靈活性。為了降低對(duì)納米粒子的晶體損傷，必須低速旋轉(zhuǎn)攪拌器。然而，在磨珠分離器和攪拌器處于同軸驅(qū)動(dòng)的情況下，緩慢的旋轉(zhuǎn)使得離心力降低，易發(fā)生磨珠泄漏。而Dual Apex Mill通過(guò)采用雙軸系統(tǒng)，讓攪拌器和磨珠分離器各自獨(dú)立驅(qū)動(dòng)從而解決了這一問(wèn)題。這種獨(dú)立驅(qū)動(dòng)的雙軸機(jī)制實(shí)現(xiàn)了當(dāng)攪拌器低速旋轉(zhuǎn)時(shí)，通過(guò)離心式磨珠分離器的高速旋轉(zhuǎn)進(jìn)行磨珠分離。不僅適用于微小磨珠，還能實(shí)現(xiàn)納米粒子低損傷的分散處理。
攪拌器除了低速旋轉(zhuǎn)外，還可高速旋轉(zhuǎn)。不僅適用于納米分散處理，還適用于微米級(jí)粒子的粉碎處理。我們同時(shí)具備同軸式和雙軸式的粉碎分散機(jī)。
Dual Apex Mill 濕式微珠磨機(jī)特點(diǎn)
1. 可支持微小磨珠下的分散處理，同時(shí)對(duì)應(yīng)微米級(jí)粒子和納米級(jí)粒子的粉碎分散！
Dual Apex Mill小能適用直徑15μm的微珠，分散處理后所能達(dá)到的粒徑小可至20nm。
2. Dual Apex Mill通過(guò)攪拌器部的低速旋轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)納米粒子的低損傷分散！
由于攪拌器和磨珠分離器是獨(dú)立驅(qū)動(dòng)的，因此即使當(dāng)攪拌器在低速運(yùn)轉(zhuǎn)下磨珠也不會(huì)泄漏。 這是一臺(tái)用微小磨珠和低速的攪拌速度即可實(shí)現(xiàn)20至300nm粒子的低損傷納米分散的分散機(jī)。該機(jī)型能避免粒子的損傷，是分散鈦酸鋇，氧化鈦，顏料等的理想裝置。
3. Dual Apex粉碎機(jī)可處理多種漿液原料！是實(shí)驗(yàn)室工作研究的珠磨機(jī)！
Dual Apex粉碎機(jī)可處理直徑范圍φ15μm到0.8mm的各種磨珠，攪拌器部分能在低速和高速下旋轉(zhuǎn)，攪拌強(qiáng)度的可選擇范圍廣，僅一臺(tái)即可對(duì)應(yīng)強(qiáng)力粉碎或低損傷的分散處理。一直以來(lái)有許多客戶購(gòu)買(mǎi)這臺(tái)設(shè)備作為多功能的實(shí)驗(yàn)性珠磨機(jī)。
結(jié)構(gòu)圖
運(yùn)行條件
適用磨珠粒徑
Φ0.015mm?Φ0.5mm
磨珠分離器轉(zhuǎn)速
6m/s?12m/s
攪拌器轉(zhuǎn)速
2m/s?12m/s
應(yīng)用和成品示例
電子材料（鈦酸鋇，中空二氧化硅），電極材料（納米銀等），阻熱材料（ITO等），光催化劑（氧化鈦），液晶顏料等。
Dual Apex Mill的主要規(guī)格。
機(jī)型 | 內(nèi)部容積 | 驅(qū)動(dòng)馬達(dá) | 大約外型尺寸 (m) | 大約重量 | ||
長(zhǎng)度 | 寬度 | 高度 | ||||
DAM-015 | 0.15 | 2.2 | 0.60 | 0.65 | 1.00 | 250 |
DAM-1 | 1 | 3.7 | 1.50 | 0.80 | 1.90 | 400 |
DAM-5 | 5 | 7.5 | 1.50 | 1.20 | 2.35 | 750 |
DAM-10 | 10 | 11 | 1.50 | 1.20 | 2.65 | 850 |
可支持微小磨珠下的分散處理，同時(shí)對(duì)應(yīng)微米級(jí)粒子和納米級(jí)粒子的粉碎分散
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