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日本JEOL截面樣品制備裝置IB-19520CCP
IB-19520CCP在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時間長、液氮消耗少的構(gòu)造設計。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機構(gòu)，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
產(chǎn)品規(guī)格：
離子加速電壓 | 2 ～ 8 kV |
離子束直徑 | 500 um( FWHM) |
研磨速率 | 500 um（兩小時的平均值、8 kV、硅材質(zhì)換算、突出量:100 um） |
樣品架冷卻達到的溫度 | -120 ℃ |
樣品冷卻持續(xù)時間 | 8小時以上 |
制冷箱容量 | 約1升 |
承載樣品的**尺寸 | 11mm(長) × 8mm（寬）× 3mm（厚） |
樣品臺移動范圍 | X軸：±6mm、Y軸：±2.5mm |
固定樣品方法 | 夾式 |
樣品加工擺角 | ±30° |
加工觀察用相機的倍率 | 約20～100倍（6.5寸顯示器上） 機械泵: 150 mm（寬） × 427 mm（長） × 230 mm（高）、約16 kg |
空氣隔離系統(tǒng) | 轉(zhuǎn)移艙 |
空氣隔離法 | 將艙內(nèi)設定成氬氣氣氛，蓋上轉(zhuǎn)移艙蓋子，將樣品封在艙里。 |
操作方法 | 觸控屏、6.5寸顯示器 |
使用氣體 | 氬氣(用質(zhì)量流量控制器控制流量) |
壓力測試 | 潘寧真空計 |
主抽真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵 |
輔助抽真空系統(tǒng) | 機械泵 |
尺寸、重量 | 主機：約670mm (寬) × 720mm(長) × 530mm(高)、約73kg 機械泵：約150 mm (寬) × 430 mm(長) × 230 mm(高)、約16kg |
選配件 | 大型旋轉(zhuǎn)樣品架（IB‐11550LSRH)、（IB‐11550LSRH) 基座樣品架 （IB‐11560MBSH) 大型樣品架（IB-11570LSH) 噴碳樣品架（IB-12510CCH） |
電源 | 單相100～120 V±10%、50/60 Hz、0.6 kVA |
接地線 | 獨立地線(100 Ω以下) |
氬氣 | 使用壓力：0.15±0.05 MPa(1.0 ～ 2.0 kg/cm2) 純度99.9999%以上(氬氣、氣瓶及調(diào)壓器由客戶自備) 金屬配管連接口:JISB0203 RC1/4 |
室溫 | 15～25 ℃ |
濕度 | 60%以下 |
產(chǎn)品特點：
★ 冷卻的效果 樣品：鍍鋅鋼板
· 可提供500μm/h（8KV/2小時的平均值）的研磨速率。
· ※ 通常加工（無冷卻）時，鐵和鋅的接合面上能夠觀察到間隙，而冷卻加工時則沒有間隙
·★ 使用溫度控制系統(tǒng)（選配件）冷卻 樣品：硅晶片接合面
· ※ 常規(guī)加工由于熱損傷造成粘合劑變形，出現(xiàn)了很大的間隙。 -150 ℃時，冷卻過度，能觀察到膠粘劑和硅晶片研磨面的接合面上出現(xiàn)了間隙，但通過溫度控制冷卻則沒有間隙。
·★ 合理利用間歇加工、冷卻功能和溫度控制冷卻功能可支持各種樣品的制備
·
· ★ 進程監(jiān)控功能
· 截面加工狀態(tài)可通過CCD相機實時監(jiān)控，倍率還可調(diào)整。
·★ 防止充放電的噴鍍功能
· 備有離子束濺射功能（選配項）
可以噴涂顆粒感良好的薄涂層。
*適合于象EBSD等需要花樣識別等情況。
· ★ 平面離子減薄樣品架
· 以小角度的離子束低角度照射樣品，達到清除表面污垢、平滑表面等效果。
另外也非常適合于選擇性蝕刻。
· ★ 截面樣品制備單元
· 安裝在平面離子減薄樣品架上使用。該單元可用于在旋轉(zhuǎn)樣品的同時進行離子束加工。
可以用來制備象多孔質(zhì)材料、粉末、纖維等容易出現(xiàn)加工條紋的樣品的截面。
暫無數(shù)據(jù)！
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