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        OAI掩膜光刻機Model 6000
        OAI掩膜光刻機Model 6000

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        深圳市藍星宇電子科技有限公司

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        OAI 掩膜光刻機 Model 6000型的特點和優(yōu)點

        •高吞吐量(180 wph,**掩模模式)和生產(chǎn)和研發(fā)的*低運行成本

        •ABO光學與光均質(zhì)器,以實現(xiàn)所需各種電阻的分辨率和曝光

        •用于大深度Foucs的特殊光學

        •靈活處理基板從2“平方到12”平方

        •可手動或自動上料

        配置。

        •系統(tǒng)配置頂部和/或底部側(cè)面/ IR 自動對準Vision ProR軟件

        •適用于各種基材尺寸和類型

        •基于Windows的軟件

        •菜單驅(qū)動的GUI與工藝配方存儲

        •全場曝光,提高吞吐量

        •頂部加載口罩支架,方便,快速,安全的口罩更換

        •可選全球調(diào)平零接觸處理

        •雙臂4軸機器人搬運系統(tǒng)(可選)

        •自調(diào)平工裝隔振

        •**的服務(wù)支持(約95%的服務(wù)水平)

        Mask Aligner - Model 6000 Features and Benefits

        • High throughput (180 wph, first mask mode) and Lowest Cost of operation for production and R&D

        • ABO Optics with light homogenizer to achieve required resolutions & exposures for various resists

        • Special Optics for Large Depth of Foucs

        • Flexibility with substrate handling from 2”sq to 12”sq

        • Comes in manual loading or automated loading configurations.

        • System configuration with top and/or bottom side / IR auto alignment with Cognex Vision ProR Software

        • Adaptable to various substrate sizes and types

        • Windows based software

        • Menu driven GUI with process recipe storage

        • Full field exposure for higher throughput

        • Top load mask holder for easy, fast and safe mask replacements

        • Optional Global leveling for zero contact processing

        • Dual arm 4-axis robot handling system (optional)

        • Self leveling tooling vibration isolation

        • Superior service support (~95% service level)

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        10分

        性價比

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