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歐洲先進(jìn)的無(wú)掩膜激光直寫系統(tǒng),*小線寬可達(dá) 100nm,為MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs等以及相關(guān)微納米結(jié)構(gòu)領(lǐng)域的科研工作者,提供強(qiáng)有力的手段!
技術(shù)參數(shù):
加工線寬:*小可達(dá) 100nm;
主要特點(diǎn):
多種曝光模式:
2D曝光模式:構(gòu)建二維納米結(jié)構(gòu);
3D曝光模式:可加工三維納米結(jié)構(gòu);
壓電驅(qū)動(dòng)平臺(tái)配合精密自動(dòng)驅(qū)動(dòng)平臺(tái),具有更高的水平定位分辨率;
系統(tǒng)自動(dòng)聚焦、糾斜、對(duì)準(zhǔn);
多功能試樣夾具;
快速樣品樣品更換:<1秒;
專業(yè)圖形設(shè)計(jì)軟件:支持導(dǎo)入CAD設(shè)計(jì)軟件,2D和3D隨意簡(jiǎn)單設(shè)計(jì);
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