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        磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter)
        磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter)

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        暫無
        上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

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        第2年

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        儀器特點:

        • 腔體材料:不銹鋼,鋁,或者Bell Jar;

        • 分子泵:70,250,500 l/sec; 一級泵:機(jī)械泵或干泵;

        • 13.5MHz, 300-600W射頻電源;1KW直流電源;

        • QCM在線厚度測量,厚度分辨率<0.1nm;

        • 帶有觀察窗的門,方便樣品取放;

        • Labview軟件,PC控制;

        • 多重密碼保護(hù);

        • 全安全互鎖設(shè)計;

        選配功能:

        • 向上,向下,側(cè)向濺射;

        • 射頻,直流、脈沖直流濺射;

        • 共濺射,反應(yīng)濺射;

        • 組合濺射;

        • 射頻、直流偏置(1000V);

        • 基底加熱:不高于700攝氏度;

        • 厚度監(jiān)控;

        • 基底射頻等離子清洗;

        • Load-Lock,以及自動樣品取放;

        不同型號選擇:

        • NSC系列,立式磁控濺射系統(tǒng);

        • NSC系列,立式緊湊磁控濺射系統(tǒng);

        • NSC系列,臺式磁控濺射系統(tǒng);

        • 雙腔體系統(tǒng),NSR系列,磁控濺射+反應(yīng)離子刻蝕(RIE);

        • 雙腔體系統(tǒng),NSP系列,磁控濺射+PECVD;

        • 雙腔體系統(tǒng),NST系列,磁控濺射+熱蒸發(fā);

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        10分

        性價比

        10分
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