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產(chǎn)品簡介
H20-UVL真空紫外單色儀在真空環(huán)境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。結(jié)合真空紫外光源和蝸輪驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)快速精確的光譜掃描，可作為一個(gè)優(yōu)異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測器，H20-UVL還是一個(gè)高性價(jià)比的真空紫外光譜分析系統(tǒng)。技術(shù)特點(diǎn) 單片式光學(xué)結(jié)構(gòu)確保光通量**化，高光學(xué)穩(wěn)定性 配備4型消像差單色儀光柵，全光譜范圍線色散均勻 全自動(dòng)蝸輪高速驅(qū)動(dòng)光柵 光柵表面鍍氟化鎂膜，優(yōu)化120nm以上波長的輸出
典型應(yīng)用 透射反射測量 熒光激發(fā) 可調(diào)濾波/光源 激光諧波濾波技術(shù)指標(biāo)
光學(xué)設(shè)計(jì) | HJY**的4型消像差單色儀光柵 |
焦長 | 200 mm |
孔徑 | f/4.2 |
刻線密度 | 1200 gr/mm |
光學(xué)鍍膜 | 針對121nm優(yōu)化的MgF2膜 |
偏轉(zhuǎn)角 | 64° |
色散 | 100nm處3.6 nm/mm |
驅(qū)動(dòng) | 高速蝸輪驅(qū)動(dòng) |
*小步進(jìn) | 0.06 nm |
速度 | 400 nm/s |
精度 | +/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*) |
可重復(fù)性 | +/-0.06 nm |
分辨率 | 優(yōu)于0.5 nm (**) |
高真空 | 10-5 mbar (***) |
真空泵法蘭 | DN40 KF |
入射/出射接口 | 測微狹縫(10 um 至 2 mm) |
入射/出射法蘭 | DN25 KF |
電腦接口 | USB2.0 |
可選項(xiàng) | |
超高真空 | 10-9 mbar |
狹縫高度調(diào)節(jié)器 | 2， 4， 6 mm |
(*)使用我們固件中的軟件驅(qū)動(dòng)矯正可以提高單色儀的精度 | |
(**)使用寬10微米，高2mm的狹縫在121nm處測量 (***)H20-UVL不含真空泵和真空計(jì) | |
附件 前鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)光源和單色儀之間的光學(xué)匹配 后鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)單色儀和樣品室之間的光學(xué)匹配 樣品室，可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品 偏振插片 制冷機(jī)，*低至4K 真空泵
暫無數(shù)據(jù)！
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