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            微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
            微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型

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            微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型

            品牌

            華宇東升

            產(chǎn)地

            四川

            樣本

            暫無
            成都華宇東升微波設備有限公司

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            微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng)

            —— A 

               一款典型的微波等離子體化學氣相沉積裝置,可以在50mm直徑的襯底范圍內(nèi)進行金剛石單晶和多晶生長。

            應用領域:工具、熱沉、光學窗口、寶石等。



                


            性能特點:

            ?**功率達到6kW

            ?微波反應腔新型設計,功率密度大

            ?產(chǎn)品沉積速率快、沉積質(zhì)量高

            ?采用水冷全金屬腔體

            ?采用高效散熱的樣品臺

            ?設備安全性高、耐用性高、可靠性強

            ?多參數(shù)實時監(jiān)測,PLC屏幕控制,簡捷的人機交互界面


            主要技術參數(shù):

            微波功率

            0.6kW -6kW 連續(xù)可調(diào) 2.45GHz

            反應腔圓柱形反應腔
            真空漏率≤5×10-10Pa·m3/s
            氣體質(zhì)量流量控制標配5路,可定制
            工作氣壓

            1kPa - 30kPa

            樣品臺

            一層升降

            基板臺類型水冷式基板臺
            襯底托**支持60mm直徑圓臺面積穩(wěn)定沉積
            操作系統(tǒng)

            PLC控制系統(tǒng)

            樣平臺升降功能有,可選
            樣品臺旋轉(zhuǎn)功能
            旋轉(zhuǎn)模式連續(xù)旋轉(zhuǎn)、間歇旋轉(zhuǎn)
            旋轉(zhuǎn)角度360°
            旋轉(zhuǎn)速度0-20轉(zhuǎn)/分,可調(diào)節(jié)


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