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卷對卷電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-定制
系統(tǒng)設計與機臺和設備組裝為主，，脈沖激光蒸鍍系統(tǒng)、原子層沉積（ALD）和銅銦鎵硒（CIGS）真空成膜系統(tǒng)，并掌握關鍵的制程技術(shù)，進而成功開發(fā)具有超高真空（UHV）的真空腔體設備，且真空度測試可達到10-10 Torr左右。
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