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            電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
            電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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            型號

            定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

            品牌

            高敦/毅睿

            產(chǎn)地

            中國

            樣本

            暫無
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            電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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            電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)

            Plasma - Enhanced Chemical Vapor Deposition

            基板尺寸:10x10cm或其他尺寸

            濺鍍源:13.56 MHz RF 或2.45 GHz微波

            基板加溫:Max800℃

            自動製程



            Description:

            基板尺寸:6”Wafer或其他尺寸

            電漿源:13.56 MHz RF & Bias

            基板加溫:Max350℃

            氣體:SiH4,NH3,N2O,Ar,N2,CF4,O2...

            自動壓力控制器

            用途:SiO2,SiXNX ... etc.,


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