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        陳傳東
        
    
        
    
        

        

        推薦這些影響稀土鈰基磨料的的拋光效率的因素，值得關注！
        
	
        中國粉體網(wǎng)訊 化學機械拋光（CMP）技術(shù)是實現(xiàn)材料全局表面平坦化的重要手段，稀土鈰基磨料因其具有顆粒硬度適中、可與被拋光材料發(fā)生化學反應、可回收性和資源豐富等優(yōu)勢是目前應用最廣泛的CMP磨料。在稀土材料用于拋光粉之前，人們通[更多]
        
            
        
              資訊
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