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為交流國內(nèi)外顆粒學(xué)研究與技術(shù)的最新進(jìn)展，每兩年一屆的“中國顆粒學(xué)會學(xué)術(shù)年會暨海峽兩岸顆粒技術(shù)研討會”將于2016年8月12－14日（8月12日報到）在四川省成都市舉辦，會期2天。本屆會議由中國顆粒學(xué)會主辦，中國顆粒學(xué)會超微顆粒專委會協(xié)辦。

中國顆粒學(xué)會是從事顆?？茖W(xué)和技術(shù)的研究、開發(fā)和應(yīng)用的科技工作者的自愿組織。學(xué)會旨在通過組織國內(nèi)和國際學(xué)術(shù)會議，開展科普和繼續(xù)教育，出版學(xué)術(shù)期刊和學(xué)術(shù)論文集等多種形式的學(xué)術(shù)活動，增強(qiáng)會員之間的交流、傳播顆粒學(xué)知識、促進(jìn)中國顆粒學(xué)技術(shù)的發(fā)展。其最終的目的是服務(wù)于國家的現(xiàn)代化建設(shè)。

會議地點(diǎn)：四川省成都市雙流區(qū)機(jī)場路181號成都家園國際酒店

展位號：No.9（具體位置見展位分布圖）

美國PSS粒度儀公司全球市場總監(jiān)Mark先生，受大會的邀請將在第一分會場做一個關(guān)于動態(tài)光散射技術(shù)在納米檢測領(lǐng)域應(yīng)用的報告。歡迎大家前來討論與交流。

報告地點(diǎn)：第一分會場--顆粒的測試與表征

報告時間：2016年8月13日 下午14:25-14:40

報告題目：Dynamic light scattering (DLS) is the preferred method for measuring particle size of submicron particles

報告人： Mark Bumiller （美國PSS粒度儀全球市場總監(jiān)）

第一分會場報告順序具體如下：