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實驗室真空高溫爐

設(shè)備簡介

美國Thermal Technology高溫爐適用于各種實驗室應(yīng)用及小規(guī)模生產(chǎn)。操作簡單，性能穩(wěn)定。**可定制溫度達3000℃。

設(shè)備特點：

* 豐富加熱原件可供選擇

* **溫度可達3000°C

* 可實現(xiàn)超高真空

* 可實現(xiàn)Ar/N₂/O₂/H₂等多種氣氛環(huán)境

應(yīng)用領(lǐng)域:

美國Thermal Technology高溫爐可用于粉末冶金、金屬化合物、陶瓷、半導(dǎo)體、物理、化學(xué)、材料、光學(xué)等諸多領(lǐng)域的樣品合成及熱處理工藝。

石墨高溫爐

金屬高溫爐