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國(guó)產(chǎn)電子束光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)自主可控，是實(shí)現(xiàn)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實(shí)驗(yàn)室開(kāi)展的全自主電子束光刻機(jī)整機(jī)的開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目取得重大進(jìn)展，成功研制出電子束光刻系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了電子束光刻機(jī)整機(jī)的自主可控，標(biāo)志著國(guó)產(chǎn)電子束光刻機(jī)研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化邁出關(guān)鍵一步。

電子束光刻是利用聚焦電子束對(duì)某些高分子聚合物（電子束光刻膠）進(jìn)行曝光并通過(guò)顯影獲得圖形的過(guò)程。而產(chǎn)生聚焦電子束并讓聚焦電子束按照設(shè)定的圖形掃描的儀器就叫做電子束光刻機(jī)。它是推動(dòng)我們當(dāng)前新材料、前沿物理研究、半導(dǎo)體、微電子、光子、量子研究領(lǐng)域的重要手段之一。此前，全球電子束光刻機(jī)市場(chǎng)高度集中，主要由美日企業(yè)壟斷，我國(guó)尚未掌握該領(lǐng)域核心技術(shù)，裝備長(zhǎng)期依賴(lài)進(jìn)口。

為實(shí)現(xiàn)電子束光刻機(jī)的自主可控，澤攸科技多年來(lái)持續(xù)積累電子光學(xué)、微納技術(shù)、高壓源及電子源技術(shù)、真空系統(tǒng)、自動(dòng)控制、數(shù)字圖像處理等多學(xué)科交叉核心技術(shù)，構(gòu)建了完整的技術(shù)體系，并推出了臺(tái)式掃描電鏡等多款電子束產(chǎn)品。2023年3月，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實(shí)驗(yàn)室共同投資2400萬(wàn)元，成立聯(lián)合工程中心，目標(biāo)是打造集科研與產(chǎn)業(yè)化為一體的電子束裝備技術(shù)創(chuàng)新基地。通過(guò)深入開(kāi)展電子束與新材料交叉領(lǐng)域的前沿技術(shù)研發(fā)，實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵裝備和共性技術(shù)的自主可控，切實(shí)提升我國(guó)在電子束加工與制備領(lǐng)域的整體創(chuàng)新能力和產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。

目前，澤攸科技已基于自主研制的掃描電鏡主機(jī)，完成電子束光刻機(jī)工程樣機(jī)研制，并開(kāi)展功能驗(yàn)證工作。通過(guò)對(duì)測(cè)試樣片的曝光生產(chǎn)，可以繪制出高分辨率的復(fù)雜圖形，達(dá)到先進(jìn)水平。該成果標(biāo)志著澤攸科技在電子束光刻機(jī)關(guān)鍵技術(shù)和整機(jī)方面的自主創(chuàng)新能力獲得重大提升。下一步，澤攸科技將持續(xù)完善電子束光刻機(jī)的性能指標(biāo)，使其達(dá)到批量應(yīng)用及產(chǎn)業(yè)化的要求。

相信在公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)的不懈努力下，澤攸科技自主研發(fā)的電子束光刻機(jī)整機(jī)必將加速實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)和商業(yè)化應(yīng)用。這不僅將大幅降低國(guó)內(nèi)芯片制造的裝備成本，還將打破國(guó)外企業(yè)的技術(shù)壁壘，使我國(guó)擁有自主可控的電子束光刻機(jī)技術(shù)，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)替代，切實(shí)保障國(guó)家信息安全。

以下是電子束光刻機(jī)部分應(yīng)用案例：