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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD品牌
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多功能電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)，主要借助微波或射頻的方法將目標(biāo)氣體進(jìn)行電離，促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)在較低的溫度下進(jìn)行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
目前項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)自主研發(fā)的CVD設(shè)備可在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導(dǎo)體表面）直接生長(zhǎng)以石墨烯為代表的各類新型二維材料，用于新材料、新器件的研發(fā)。工藝簡(jiǎn)單廉價(jià)，且具有傳統(tǒng)半導(dǎo)體生長(zhǎng)工藝的兼容性。
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國(guó)產(chǎn)電子束光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)自主可控，是實(shí)現(xiàn)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實(shí)驗(yàn)室開展的全自主電子束光刻機(jī)整機(jī)的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目取得重大進(jìn)展，成功研制出電子束光刻系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了
在科技創(chuàng)新的浪潮中，澤攸科技以其研發(fā)實(shí)力和創(chuàng)新精神，不斷推動(dòng)著儀器行業(yè)的發(fā)展。6月12日，我們迎來了一個(gè)具有里程碑意義的時(shí)刻——澤攸科技銅陵公司正式喬遷至東市電子創(chuàng)業(yè)園，這不僅是公司發(fā)展歷程中的一個(gè)新
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