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            美國SVT脈沖激光沉積設備/PLD
            美國SVT脈沖激光沉積設備/PLD

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            美國

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            美國SVTA公司中國辦事處

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            第2年

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            SVTSMARTScientific Materials and Applied Research Tool)脈沖激光沉積系統(tǒng)具有****的優(yōu)越性。它可以把激光燒蝕技術和我們所擁有的其他沉積技術(如RF源)集成于一臺設備上??梢陨L各種可能的材料。

            配有6個旋轉(zhuǎn)靶臺,實現(xiàn)多層薄膜結構生長。

            可與準分子激光和Yag激光相連。

            在線監(jiān)控儀器做為可選件,為客戶提供高質(zhì)量的工藝信息反饋。

            裝載室不但可以裝取樣品,還可以與其他生長設備或分析設備相連。

            應用

            多元素復合氧化物

            高溫超導材料

            磁性材料、金屬材料

            低蒸汽壓材料

            MEMS

            基本系統(tǒng)

            腔室及真空泵

            12’’ 快速門,250l/s 分子泵,全量程規(guī)

            沉積源

            靶臺,6X1’’(25mm) 靶,可以水平旋轉(zhuǎn),

            Z方向移動

            樣品臺

            1’’(25mm)大小,可加熱至800oC1000oC可選),可水平旋轉(zhuǎn),可Z方向移動

            在線工藝監(jiān)控

            石英晶振沉積速率監(jiān)控儀

            自動化

            自動化裝置:

            控制樣品溫度和旋轉(zhuǎn)

            靶臺的位置控制

            靶臺旋轉(zhuǎn)

            氣體控制

            速率及厚度計算(利用QCM輸出)

            激光束掃描(可選)

            激光束屏蔽控制

            自動泵抽和充氣

            差分泵抽結構

            RHEED分析(可選)

            裝載室壓強監(jiān)控(可選)

            主要特點

            RF射頻等離子源(氧,氮)

            升級高真空

            增加進樣室

            升級為Laser-MBE (L-MBE)系統(tǒng)

            自動軟件控制

            提供更潔凈的薄膜生長環(huán)境,**的溫度控制解決方案.

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            產(chǎn)品質(zhì)量

            10分

            售后服務

            10分

            易用性

            10分

            性價比

            10分
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            美國SVT脈沖激光沉積設備/PLD信息由美國SVTA公司中國辦事處為您提供,如您想了解更多關于美國SVT脈沖激光沉積設備/PLD報價、型號、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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