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垂直離子濺射鍍膜設備品牌
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型號：IBSV-1030 特點： a)基板垂直放置，水平監(jiān)控； b)轉(zhuǎn)靶左右可調(diào)，保證靶面中心和離子源**距離； c)基板：12吋×1 ; d)靶材：兩靶或三靶可更換； |
杰萊特秉承質(zhì)量**，信譽至上的理念專注鍍膜行業(yè)數(shù)十年，我公司將利用自身技術(shù)優(yōu)勢，根據(jù)客戶需求，生產(chǎn)各種類型的高端精密鍍膜設備
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