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澤攸科技無(wú)掩膜光刻機(jī)是一種先進(jìn)的光刻技術(shù)設(shè)備，它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來(lái)轉(zhuǎn)移電路圖形，而是通過(guò)計(jì)算機(jī)控制的高精度光束直接在感光材料上進(jìn)行掃描曝光，形成所需的微細(xì)圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。
技術(shù)特點(diǎn)
▲ 納米壓電位移臺(tái)拼接技術(shù)
▲ 紅光引導(dǎo)曝光，所見(jiàn)即所得
▲ OPC修正算法優(yōu)化圖形質(zhì)量
▲ CCD相機(jī)逐場(chǎng)自動(dòng)聚焦
▲ 灰度勻光技術(shù)
光路遠(yuǎn)離結(jié)構(gòu)圖
主要指標(biāo)
應(yīng)用案例
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國(guó)產(chǎn)電子束光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)自主可控，是實(shí)現(xiàn)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實(shí)驗(yàn)室開(kāi)展的全自主電子束光刻機(jī)整機(jī)的開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目取得重大進(jìn)展，成功研制出電子束光刻系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了
在科技創(chuàng)新的浪潮中，澤攸科技以其研發(fā)實(shí)力和創(chuàng)新精神，不斷推動(dòng)著儀器行業(yè)的發(fā)展。6月12日，我們迎來(lái)了一個(gè)具有里程碑意義的時(shí)刻——澤攸科技銅陵公司正式喬遷至東市電子創(chuàng)業(yè)園，這不僅是公司發(fā)展歷程中的一個(gè)新
無(wú)掩膜光刻機(jī)的工作原理介紹？無(wú)掩膜光刻機(jī)的使用方法？無(wú)掩膜光刻機(jī)多少錢一臺(tái)？無(wú)掩膜光刻機(jī)使用的注意事項(xiàng)無(wú)掩膜光刻機(jī)的說(shuō)明書有嗎？無(wú)掩膜光刻機(jī)的操作規(guī)程有嗎？無(wú)掩膜光刻機(jī)的報(bào)價(jià)含票含運(yùn)費(fèi)嗎？無(wú)掩膜光刻機(jī)有現(xiàn)貨嗎？無(wú)掩膜光刻機(jī)包安裝嗎？
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