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2830 ZT品牌
馬爾文帕納科產(chǎn)地
荷蘭樣本
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2830 ZT 波長(zhǎng)色散 X 射線熒光 (WDXRF) 晶圓分析儀提供了用于測(cè)量薄膜厚度和成分的功能。 2830 ZT 晶圓分析儀專門針對(duì)半導(dǎo)體和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)行業(yè)而設(shè)計(jì)，該儀器可為多種晶片（厚達(dá) 300 mm）測(cè)定層結(jié)構(gòu)、厚度、摻雜度和表面均勻性。
4 kW SST-mAX X 射線管配備了突破性的 ZETA 技術(shù)，可以消除 X 射線管老化效應(yīng)。 這種“全新射線管”性能可以在 X 射線管整個(gè)壽命期間得到保持，同時(shí)高靈敏度與 ZETA 技術(shù)相結(jié)合，確保了在 X 射線管壽命期間可以一直提供快速的分析和簡(jiǎn)短的測(cè)量時(shí)間。 ZETA 技術(shù)顯著減少了對(duì)于漂移校正和重新校準(zhǔn)的需求，從而提高了儀器的生產(chǎn)率和正常運(yùn)行時(shí)間。
傳統(tǒng) X 射線管會(huì)出現(xiàn)鎢燈絲揮發(fā)，從而導(dǎo)致光管鈹窗內(nèi)部出現(xiàn)沉淀物污染鈹窗。 使用此類 X 射線管的儀器需要定期進(jìn)行漂移校正以補(bǔ)償下降的強(qiáng)度，尤其是對(duì)于輕元素而言。
2830 ZT 采用 SST-mAX 射線管解決了這一漂移問題，從而大大提升了正常運(yùn)行時(shí)間并能夠隨著時(shí)間的推移維持儀器精度。
2830 ZT 配置SuperQ 軟件，該軟件包含了 FP Multi - 一個(gè)專門針對(duì)多層分析開發(fā)的專用軟件包。 該軟件的用戶界面確保即使是沒有經(jīng)驗(yàn)的操作員也可以對(duì)多層進(jìn)行全自動(dòng)的基本參數(shù)分析。
該儀器的 SuperQ 軟件具有多種易于使用的模塊，這些模塊能夠方便研究者和工程師進(jìn)行靈活的操作。 可以輕松切換配方和調(diào)整設(shè)備參數(shù)以適應(yīng)用戶偏好。
FALMO-2G 可輕松集成到任意實(shí)驗(yàn)室或晶片廠中：從簡(jiǎn)單的人工托架裝載到全自動(dòng)。 完全靈活的設(shè)計(jì)讓晶片廠經(jīng)理能夠選擇 FOUP、SMIF 或開放式裝入端口，配有一個(gè)或兩個(gè)裝入端口配置。 各種配置的 FALMO-2G 均受到符合 GEM300 的軟件支持。 FALMO-2G 的占地空間大大降低，而沒有損失靈活性、功能。
該儀器的 SuperQ 軟件具備多種易用使用的模塊，這些模塊能夠方便研究者和工程師進(jìn)行靈活的操作。 可以輕松切換配方和調(diào)整設(shè)備參數(shù)以適應(yīng)用戶偏好。
波長(zhǎng)色散 X 射線熒光 (WDXRF)
隨著動(dòng)力電池和新能源汽車的需求爆發(fā)，鋰電正極材料也正在快速迭代，其中三元材料逐漸成為動(dòng)力電池的主流選擇。目前三元材料中的鎳鈷錳成分分析多采用ICP分析方法，化學(xué)分析過程相對(duì)復(fù)雜、分析時(shí)間長(zhǎng)、梯度稀釋誤
2021-08-06
XRF在鋰電正極材料元素分析中的應(yīng)用 水泥和似水泥物（混合材）體系水化過程的X射線衍射分析 馬爾文帕納科綜合樣本手冊(cè) 
在科研與產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新的過程中，作為核心生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備的精密儀器，其先進(jìn)性及性能穩(wěn)定性
時(shí)間：2025年4月18日-20日 展館：大連國(guó)際會(huì)議中心 &n
展期：2025年3月10日-12日展館：上海世博展覽館 H1 號(hào)館地址：上海市?浦東博成路850號(hào)展位號(hào)：H1-A4262025年3月10日至12日，馬爾文帕納科（Malvern Panalytica
本文摘要使用Zetasizer納米粒度電位儀進(jìn)行預(yù)制備樣品電位測(cè)量時(shí)，樣品中產(chǎn)生的氣泡會(huì)顯著影響測(cè)量結(jié)果。本文將通過實(shí)際案例展示如何通過超聲脫氣與馬爾文帕納科專利的擴(kuò)散屏障法[2]結(jié)合使用，來保障預(yù)制
本文摘要納米氣泡的粒度表征，受限于其顆粒濃度低、粒徑分布寬等特點(diǎn)，若使用動(dòng)態(tài)光散射（DLS）技術(shù)進(jìn)行測(cè)試，信號(hào)弱，數(shù)據(jù)質(zhì)量較差。本文將介紹利用納米顆粒跟蹤（NTA）技術(shù)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)、可視化的納米氣泡顆粒表
本文摘要磨料用SiO2 漿料的顆粒粒度對(duì)硅晶片的微觀形貌有直接影響，進(jìn)而會(huì)影響到后續(xù)工序電介質(zhì)膜的均勻性；此外，漿料的穩(wěn)定性也會(huì)影響晶片拋光過程，所以磨料的顆粒表征非常重要，本文介紹了利用動(dòng)態(tài)光散射技
2830 ZT 晶圓分析儀的工作原理介紹？2830 ZT 晶圓分析儀的使用方法？2830 ZT 晶圓分析儀多少錢一臺(tái)？2830 ZT 晶圓分析儀使用的注意事項(xiàng)2830 ZT 晶圓分析儀的說明書有嗎？2830 ZT 晶圓分析儀的操作規(guī)程有嗎？2830 ZT 晶圓分析儀的報(bào)價(jià)含票含運(yùn)費(fèi)嗎？2830 ZT 晶圓分析儀有現(xiàn)貨嗎？2830 ZT 晶圓分析儀包安裝嗎？
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