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Epsilon 4品牌
馬爾文帕納科產(chǎn)地
荷蘭樣本
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N/A重現(xiàn)性：
N/A分散方式：
N/A測量時(shí)間：
3-5min測量范圍：
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借助 XRF 光譜儀 Epsilon 3 系列的經(jīng)驗(yàn)打造而成，Epsilon 4 是一款多功能臺(tái)式 XRF 分析儀，廣泛用于從研發(fā)到流程控制等各個(gè)領(lǐng)域中需要從氟 (F) 到镅 (Am) 元素分析的行業(yè)細(xì)分市場。 Epsilon 4 將激發(fā)和檢測技術(shù)與成熟軟件和智能設(shè)計(jì)相結(jié)合，其分析性能更接近于功率更高的落地式 XRF 光譜儀。
由于較低的基礎(chǔ)設(shè)施要求，可以將 Epsilon 4 放到生產(chǎn)過程中靠近生產(chǎn)線的任意位置。 其高性能使大多數(shù)應(yīng)用能夠在環(huán)境條件下運(yùn)行，從而降低氦氣或真空維護(hù)的成本。
能量色散式 X-射線熒光光譜儀可分析從碳 (C) 到镅 (Am) 的元素，涵蓋從百萬分之一以下到 100 wt% 的濃度。
將 Omnian 用于無標(biāo)分析，當(dāng)需要快速分析鑒定時(shí)，則使用 FingerPrint 來進(jìn)行材料測試，或者使用 Stratos 來對(duì)涂層、表面層和多層結(jié)構(gòu)進(jìn)行快速、簡單和非破壞性的分析。 還可以使用支持與 FDA 21 CFR 第 11 部分等法規(guī)合規(guī)的增強(qiáng)的數(shù)據(jù)安全性，或者使用 Oil-Trace 量化生物燃油混合燃料到新潤滑油和使用過的潤滑油。
Epsilon 4 可處理多種樣本類型，包括固體、壓片和疏松粉末、液體和濾膜。 在重量從幾毫克到幾千克的樣品上，對(duì)從碳 (C) 氟到镅 (Am) 的元素進(jìn)行非破壞性的定量分析，涵蓋從 100% 到百萬分之一以下的濃度范圍。
Epsilon 4 是穩(wěn)健、可靠的傳統(tǒng)系統(tǒng)替代方案，已在許多行業(yè)和應(yīng)用領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用，甚至在輕元素分析*為重要的環(huán)境中，包括：水泥生產(chǎn)、采礦、選礦、鋼鐵及有色金屬、RoHS 篩選及定量、石油和石化、聚合物及相關(guān)行業(yè)、玻璃生產(chǎn)、法醫(yī)學(xué)、
制藥、保健產(chǎn)品、環(huán)保、食品和化妝品。
Epsilon 4 是高度靈活的分析工具，可在 10 瓦版本中用于從研發(fā)到過程控制等各個(gè)領(lǐng)域的元素分析 (F - Am)。 要實(shí)現(xiàn)更高的樣品處理量或擴(kuò)展的輕元素功能，并且處于更加具有挑戰(zhàn)性的環(huán)境，可以使用 15 瓦版本，甚至可以對(duì)碳、氮和氧進(jìn)行分析。
Epsilon 4 儀器將射線探測技術(shù)與分析軟件結(jié)合到了一起。 15 瓦 X 射線管與大電流 (3 mA)、硅漂移探測器 SDD30 以及緊湊的光路設(shè)計(jì)相結(jié)合，提供了甚至超過 50 瓦功率 EDXRF 系統(tǒng)以及臺(tái)式 WDXRF 系統(tǒng)的分析性能 - 同時(shí)還額外提高了能源利用效率。
利用可生成更高強(qiáng)度的硅漂移探測器技術(shù)實(shí)現(xiàn)迅速測量。
探測器電路提供的線性計(jì)數(shù)率可超過 1,500,000 cps（在 50% 的死時(shí)間下），和計(jì)數(shù)率無關(guān)的分辨率通常高于 135 eV，可更好地分離光譜中的分析譜線。 這使得 Epsilon 4 光譜儀能夠以全功率運(yùn)行，因此與傳統(tǒng)的 EDXRF 臺(tái)式儀器相比，實(shí)現(xiàn)了更高的樣品通量。
Epsilon 4 的高性能使得許多應(yīng)用可以在空氣環(huán)境中運(yùn)行，無需較長的進(jìn)樣時(shí)間和費(fèi)用來維護(hù)氦氣或真空系統(tǒng)。 在空氣中測量時(shí)，鈉、鎂和鋁的低能量 X 射線光子對(duì)氣壓和溫度變化很敏感。 內(nèi)置溫度和氣壓傳感器可補(bǔ)償這些大氣變化，確保在各種氣候條件下結(jié)果不受影響。
能量色散式 X-射線熒光光譜
隨著動(dòng)力電池和新能源汽車的需求爆發(fā)，鋰電正極材料也正在快速迭代，其中三元材料逐漸成為動(dòng)力電池的主流選擇。目前三元材料中的鎳鈷錳成分分析多采用ICP分析方法，化學(xué)分析過程相對(duì)復(fù)雜、分析時(shí)間長、梯度稀釋誤
2021-08-06
XRF在鋰電正極材料元素分析中的應(yīng)用 水泥和似水泥物（混合材）體系水化過程的X射線衍射分析 馬爾文帕納科綜合樣本手冊 
在科研與產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新的過程中，作為核心生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備的精密儀器，其先進(jìn)性及性能穩(wěn)定性
時(shí)間：2025年4月18日-20日 展館：大連國際會(huì)議中心 &n
展期：2025年3月10日-12日展館：上海世博展覽館 H1 號(hào)館地址：上海市?浦東博成路850號(hào)展位號(hào)：H1-A4262025年3月10日至12日，馬爾文帕納科（Malvern Panalytica
本文摘要使用Zetasizer納米粒度電位儀進(jìn)行預(yù)制備樣品電位測量時(shí)，樣品中產(chǎn)生的氣泡會(huì)顯著影響測量結(jié)果。本文將通過實(shí)際案例展示如何通過超聲脫氣與馬爾文帕納科專利的擴(kuò)散屏障法[2]結(jié)合使用，來保障預(yù)制
本文摘要納米氣泡的粒度表征，受限于其顆粒濃度低、粒徑分布寬等特點(diǎn)，若使用動(dòng)態(tài)光散射（DLS）技術(shù)進(jìn)行測試，信號(hào)弱，數(shù)據(jù)質(zhì)量較差。本文將介紹利用納米顆粒跟蹤（NTA）技術(shù)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)、可視化的納米氣泡顆粒表
本文摘要磨料用SiO2 漿料的顆粒粒度對(duì)硅晶片的微觀形貌有直接影響，進(jìn)而會(huì)影響到后續(xù)工序電介質(zhì)膜的均勻性；此外，漿料的穩(wěn)定性也會(huì)影響晶片拋光過程，所以磨料的顆粒表征非常重要，本文介紹了利用動(dòng)態(tài)光散射技
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