參考價(jià)格
面議型號(hào)
Spraytec品牌
馬爾文帕納科產(chǎn)地
英國(guó)樣本
暫無(wú)誤差率:
N/A分辨率:
N/A重現(xiàn)性:
高于1%儀器原理:
靜態(tài)光散射分散方式:
N/A測(cè)量時(shí)間:
快速模式:30 秒; 連續(xù)模式:60分鐘測(cè)量范圍:
0.5μm條件下,150mm;超過(guò)5 μm條件下,擴(kuò)展至1m以上看了噴霧粒度儀Spraytec的用戶又看了
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在許多應(yīng)用中,氣霧和噴霧顆粒的大小是確定產(chǎn)品性能的核心,包括人類呼吸系統(tǒng)的藥物輸送以及涂料,燃油噴射和農(nóng)業(yè)化學(xué)品方面的應(yīng)用。許多特殊環(huán)境或高速噴霧,給測(cè)量帶來(lái)挑戰(zhàn)。馬爾文帕納科Spraytec噴霧粒度分析儀專為滿足這些挑戰(zhàn)而設(shè)計(jì),以實(shí)現(xiàn)對(duì)噴霧粒度進(jìn)行常規(guī)可靠的分析。
馬爾文帕納科Spraytec噴霧粒度分析儀可對(duì)噴霧劑顆粒及噴霧滴液粒度分布進(jìn)行實(shí)時(shí)測(cè)量,使噴霧劑與氣霧劑產(chǎn)品開(kāi)發(fā)更高效。 該系統(tǒng)的特殊設(shè)計(jì)旨在解決噴霧劑表征的要求,提供穩(wěn)健、可再現(xiàn)的滴液粒度數(shù)據(jù)。
Spraytec系統(tǒng)使用激光衍射技術(shù)及檢測(cè)系統(tǒng),解決了多分散噴霧顆粒粒度分布的測(cè)量問(wèn)題。而多重衍射校正技術(shù)的采用,可確保在高達(dá)95%的遮光度下準(zhǔn)確測(cè)量霧滴顆粒的粒度分布,遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)了傳統(tǒng)激光衍射系統(tǒng)的操作范圍。
Spraytec 杰出特點(diǎn):
快速自動(dòng)對(duì)光
通過(guò)靈活的觸發(fā)選項(xiàng),實(shí)現(xiàn)測(cè)量同步
測(cè)量寬粒度范圍(0.1-2000微米),無(wú)需不斷更換光學(xué)器件
采集速率高達(dá)10KHz,能夠產(chǎn)生100微秒時(shí)間間隔的顆粒大小分布,分析噴霧霧化和分散的動(dòng)態(tài)
采用多散射分析技術(shù)提供不以濃度為基礎(chǔ)的準(zhǔn)確結(jié)果
具有寬噴霧流的特點(diǎn),無(wú)光學(xué)器件污染風(fēng)險(xiǎn)
通過(guò)粒度演變分析軟件,輕松揭示噴霧粒度的動(dòng)態(tài)變化
滿足FDA 21 CFR Part 11標(biāo)準(zhǔn)
馬爾文帕納科Spraytec采用激光衍射技術(shù)測(cè)量噴霧劑滴液及噴霧劑顆粒粒度。當(dāng)激光束穿過(guò)噴霧時(shí),通過(guò)測(cè)量散射光的強(qiáng)度來(lái)完成粒度測(cè)量。之后,所得數(shù)據(jù)用于分析計(jì)算形成該散射光譜圖的滴液粒度。
Spraytec系統(tǒng)由以下主要部分構(gòu)成:
一個(gè)包含有準(zhǔn)直激光源的發(fā)射模塊,在測(cè)量過(guò)程中照射噴霧。
一個(gè)接收模塊,含有任意一種透鏡(300mm 或 750mm) ,可對(duì)噴霧散射至一系列檢測(cè)器上的任何光線進(jìn)行聚焦。 此類檢測(cè)器可準(zhǔn)確測(cè)量噴霧滴液從寬角度范圍散射的光強(qiáng)度。
一個(gè)光具座,確保發(fā)射及接收器校準(zhǔn)。 光具座長(zhǎng)度可更改,以適應(yīng)不同應(yīng)用,*長(zhǎng)光具座為2.5m。
Spraytec軟件,在測(cè)量期間對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制,分析散射數(shù)據(jù),計(jì)算噴霧粒度分布。 結(jié)果顯示為“粒度演變”趨勢(shì)圖,可實(shí)時(shí)確認(rèn)隨時(shí)間變化的滴液粒度。
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
隨著動(dòng)力電池和新能源汽車的需求爆發(fā),鋰電正極材料也正在快速迭代,其中三元材料逐漸成為動(dòng)力電池的主流選擇。目前三元材料中的鎳鈷錳成分分析多采用ICP分析方法,化學(xué)分析過(guò)程相對(duì)復(fù)雜、分析時(shí)間長(zhǎng)、梯度稀釋誤
2021-08-06
在科研與產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新的過(guò)程中,作為核心生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備的精密儀器,其先進(jìn)性及性能穩(wěn)定性
時(shí)間:2025年4月18日-20日 展館:大連國(guó)際會(huì)議中心 &n
展期:2025年3月10日-12日展館:上海世博展覽館 H1 號(hào)館地址:上海市?浦東博成路850號(hào)展位號(hào):H1-A4262025年3月10日至12日,馬爾文帕納科(Malvern Panalytica
本文摘要使用Zetasizer納米粒度電位儀進(jìn)行預(yù)制備樣品電位測(cè)量時(shí),樣品中產(chǎn)生的氣泡會(huì)顯著影響測(cè)量結(jié)果。本文將通過(guò)實(shí)際案例展示如何通過(guò)超聲脫氣與馬爾文帕納科專利的擴(kuò)散屏障法[2]結(jié)合使用,來(lái)保障預(yù)制
本文摘要納米氣泡的粒度表征,受限于其顆粒濃度低、粒徑分布寬等特點(diǎn),若使用動(dòng)態(tài)光散射(DLS)技術(shù)進(jìn)行測(cè)試,信號(hào)弱,數(shù)據(jù)質(zhì)量較差。本文將介紹利用納米顆粒跟蹤(NTA)技術(shù)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)、可視化的納米氣泡顆粒表
本文摘要磨料用SiO2 漿料的顆粒粒度對(duì)硅晶片的微觀形貌有直接影響,進(jìn)而會(huì)影響到后續(xù)工序電介質(zhì)膜的均勻性;此外,漿料的穩(wěn)定性也會(huì)影響晶片拋光過(guò)程,所以磨料的顆粒表征非常重要,本文介紹了利用動(dòng)態(tài)光散射技