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        膜厚測量儀
        膜厚測量儀

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        產(chǎn)地

        日本

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        暫無
        上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

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        第2年

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        產(chǎn)品特點(diǎn):

        ? 薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析。

        ? 高性能的低價光學(xué)薄膜測量儀。

        ? 藉由**反射率光譜分析膜厚。

        ? 完整繼承FE-3000高端機(jī)種90%的強(qiáng)大功能。

        ? 無復(fù)雜設(shè)定,操作簡單,短時間內(nèi)即可上手。

        ? 非線性*小平方法解析光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。

        產(chǎn)品規(guī)格:

        型號FE-300VFE-300UVFE-300NIR
        對應(yīng)膜厚標(biāo)準(zhǔn)型薄膜型厚膜型超厚膜型
        樣品尺寸**8寸晶圓(厚度5mm
        膜厚范圍100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm
        波長范圍450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm
        膜厚精度±0.2nm以內(nèi)±0.2nm以內(nèi)--
        重復(fù)再現(xiàn)性(2σ)0.1nm以內(nèi)0.1nm以內(nèi)--
        測量時間0.1s10s以內(nèi)
        測量口徑Φ3mm
        光源鹵素?zé)?/span>UV用D2鹵素?zé)?/span>鹵素?zé)?/span>
        通訊界面USB
        尺寸重量280W×570D×350Hmm,約24kg
        軟件功能
        標(biāo)準(zhǔn)功能波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析
        選配功能材料分析軟件、薄膜模型解析、標(biāo)準(zhǔn)片解析

        應(yīng)用范圍:

        ? 半導(dǎo)體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)

        ? 光學(xué)薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)

        應(yīng)用范例:

        ? PET基板上的DLC膜

        ? Si基板上的SiNx

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        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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