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M82200-10UM型PECVD 鍍膜設(shè)備品牌
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湖南樣本
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
單臺(tái)（5管）產(chǎn)能≥3600片/小時(shí)（單管裝片416片/批）；
沉膜均勻性好，膜厚均勻性指標(biāo)可達(dá)：片內(nèi)≤3％、片間≤3％、批間≤3％；
350～580℃控溫范圍，同時(shí)滿足沉積氮化硅膜和退火工藝要求；
采用全套倍?？刂葡到y(tǒng)，自動(dòng)化程度高（ 提供MES接口、遠(yuǎn)程監(jiān)控等功能）；
全自動(dòng)上下舟系統(tǒng)，一鍵全自動(dòng)工藝和完善的保護(hù)報(bào)警功能；
送料機(jī)構(gòu)強(qiáng)度、精度、速度、穩(wěn)定性大幅優(yōu)于同類產(chǎn)品。
基本參數(shù) | 成膜種類 | 氮化硅 |
裝片量與產(chǎn)能 | 416 片/批（156x156mm 方片），單臺(tái)5管產(chǎn)能≥3600片/小時(shí)； | |
在線時(shí)間 | ≥98%； | |
設(shè)備功率 | 峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； | |
設(shè)備尺寸 | 7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； | |
成膜質(zhì)量參數(shù) | 成膜均勻性 | 片內(nèi)≤4％、片間≤3％、批間≤3％（膜厚80～120nm）； |
折射率均勻性 | 片內(nèi)≤1.5％、片間≤1.5％、批間≤1.5％（折射率2～2.2）； | |
溫控系統(tǒng)參數(shù) | 恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度 | ≤±1℃/1600mm （450℃時(shí)）； |
溫度控制范圍 | 200～580℃； | |
溫度控制方式 | 五段雙回路溫度控制； | |
真空系統(tǒng)參數(shù) | 壓力控制 | 高精度VAT閥控制，控壓范圍220±40Pa； |
石墨舟傳輸系統(tǒng)參數(shù) | 石墨舟上料方式 | 全自動(dòng)機(jī)械手上下舟，在線式/離線式對(duì)接插片機(jī)可選； |
控制系統(tǒng)參數(shù) | 推舟機(jī)構(gòu) | 水平速度1~12000mm/min可調(diào)，垂直速度1~150mm/min可調(diào)，承重≥40KG； |
控制方式 | 高性能工控計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制工藝過程，并對(duì)工藝參數(shù)和工藝流程實(shí)時(shí)監(jiān)控； | |
基本參數(shù) | 在線時(shí)間 | ≥98%； |
設(shè)備功率 | 峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； | |
設(shè)備尺寸 | 7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； |
暫無數(shù)據(jù)！
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