雙軸式不定偏心法對提高磁粒研磨軌跡均勻性的研究

編號：FTJS106973

篇名：雙軸式不定偏心法對提高磁粒研磨軌跡均勻性的研究

作者：馬小剛 王梓鑒 李厚樂 王澤志

關(guān)鍵詞： 磁粒研磨 平面研磨 軌跡均勻性 ADAMS 表面粗糙度 平面度

機構(gòu)： 遼寧科技大學(xué)機械工程與自動化學(xué)院 遼寧省復(fù)雜工件表面特種加工重點實驗室

摘要： 為解決TC4鈦合金表面研磨不均勻、研磨軌跡重疊與加工效率低的問題,提出1種雙軸式不定偏心磁粒研磨法。利用Adams軟件模擬單顆磨粒的運動軌跡,采用統(tǒng)計方法計算運動軌跡密度的標準差值,作為平面運動軌跡均勻性的定量評價值。采用單軸式磁粒研磨法、雙軸式定心磁粒研磨法和雙軸式不定心磁粒研磨法在主軸轉(zhuǎn)速350 r/min,研磨間隙1.5 mm的實驗條件下對TC4鈦合金平面研磨60 min,通過表面粗糙度、平面度大小和表面形貌來表征工件的表面均勻性。結(jié)果表明相同實驗條件下采用雙軸式不定偏心磁粒研磨法進行表面光整加工,粗糙度Ra由3.60μm下降到0.21μm,最大高度差由41.0μm變?yōu)?.3μm,平面度由0.0297 mm變?yōu)?.0072 mm,相比較于其它2種加工方式,雙軸式不定偏心磁粒研磨既可以提高研磨效率,又可以使磨粒的運動軌跡密集程度大幅度減小,研磨軌跡更加均勻,有效去除了工件表面缺陷,顯著提升表面均勻性。