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        紫外掩膜曝光機(jī)
        紫外掩膜曝光機(jī)

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        暫無
        German First-Nano System 德國韋氏納米

        會員

        |

        第2年

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        OAI超過35年的歷史

        按照您的具體規(guī)格設(shè)計(jì)和制造紫外線儀器和曝光系統(tǒng)在世界范圍內(nèi)亨有聲譽(yù)

        無論復(fù)雜還是簡單,OAI都有*聰明的解決方案。

        OAI 200型

        光刻機(jī) 和

        紫外曝光系統(tǒng)

        OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。

        高效光源在各種光譜上提供均勻的紫外線照射。.

        OAI 200型光刻機(jī)和紫外線曝光系統(tǒng)是一種經(jīng)濟(jì)高效的高性能工具,采用行業(yè)驗(yàn)證的模塊化組件進(jìn)行設(shè)計(jì),使OAI成為MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的**者。200型是臺式機(jī)型,需要*小的潔凈室空間。它為研發(fā),試驗(yàn)或小批量生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空卡盤校平系統(tǒng),基板被快速和平緩地平整以用于平行光掩模對準(zhǔn)和在接觸暴露期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)具有微米分辨率和對準(zhǔn)精度。對準(zhǔn)模塊具有掩模插入件組和快速更換晶片卡盤,其允許使用各種襯底和掩模,而不需要對機(jī)器重新設(shè)定。對準(zhǔn)模塊包含X,Y和θ軸(微米)。200型對準(zhǔn)器可以廣泛地安裝進(jìn)對準(zhǔn)光學(xué)儀器,包括背面IR。 IR照明真空吸盤可以被配置用于整個或或部分晶片的對準(zhǔn)。 OAI 200型可配置OAI納米壓印模塊,使其成為*低成本的NIL工具。 OAI還提供了一個模塊,設(shè)計(jì)用于使用液體光引物進(jìn)行快速成型或生產(chǎn)微流體器件。 Model 200具有可靠的OAI光源,在近紫外或深紫外線下使用200至2000瓦功率的燈提供準(zhǔn)直的紫外光。雙傳感器,光學(xué)反饋回路與恒定強(qiáng)度控制器相關(guān)聯(lián),以提供在所需強(qiáng)度的±2%內(nèi)的曝光強(qiáng)度的控制??梢院唵慰焖俚馗淖僓V波長。

        型號200是一個高度靈活的, 經(jīng)濟(jì)的解決方 案,適合任何 入門級掩模對準(zhǔn)和紫外線照射應(yīng)用。

        應(yīng)用

        MEMS

        NIL

        微流體

        納米技術(shù)

        II-VI和III-V器件制造

        多級抗蝕劑處理

        LCD和FED顯示器

        MCM’S

        薄膜器件

        太陽能電池

        SAW器件

        選項(xiàng)

        提供單或雙相機(jī)和屏幕

        (雙相機(jī)/雙屏版本如照片所示)

        可以安裝NIL的Nano Imprint模塊

        可安裝微流體模塊

        OAI 200型臺式光刻機(jī)和紫外線曝光系統(tǒng)

        OAI 200型掩模對準(zhǔn)器和UV曝光系統(tǒng)

        特征

        規(guī)格

        體積小

        基板平臺

        X, Y Travel

        Z Travel

        Micrometer

        Graduations

        Rotation

        ± 10mm

        真空吸盤

        1,500 microns

        .001"; .0001"

        or .01mm; .001mm

        ± 3.5?

        精密對準(zhǔn)模塊

        可互換的面罩架和基板卡盤

        掩膜

        大小

        Up to 14" x 14"

        好處

        光源

        光束尺寸

        燈功率

        Up to 12" square

        200, 350, 500, 1,000, and

        2,000 Watt NUV

        I 需要*小的潔凈室空間

        500, 1,000 and 2,000 Watt DUV

        I 對易碎基材材料造成損壞降至*低

        快門定時器

        設(shè)施

        定時器

        0.1 to 99.0 sec. at 0.1

        second increments

        or 1 to 999 sec. at 1

        second increments

        I 精確對準(zhǔn)至1微米

        I 可輕松容納各種基材和面罩

        電壓

        110或220 / 400vac

        (或根據(jù)其他國家

        電源要求)

        I IR透明晶片的背面掩模對準(zhǔn),精度高達(dá)3-5微米

        真空

        20 - 28” Hg.

        I 高度準(zhǔn)直,均勻的紫外線

        空氣和氮?dú)?/p>

        CDA at 60 PSI and

        N2at 40 PSI

        排氣

        .35“至.5”水

        I 快速更改UV光波長

        I 曝光控制強(qiáng)度為±2%

        尺寸

        高度

        寬度

        深度

        運(yùn)輸重量

        37” (200mm), 45” (300mm)

        31” (200mm) , 60” (300mm)

        25” (200mm), 70” (300mm)

        250 Lbs. (200mm), 400lbs (300mm)

        I 可以配置為NIL的Nano Imprint工具

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        產(chǎn)品質(zhì)量

        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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        紫外掩膜曝光機(jī)信息由German First-Nano System 德國韋氏納米為您提供,如您想了解更多關(guān)于紫外掩膜曝光機(jī)報(bào)價、型號、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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